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[미국특허] Methods for drying and cleaning objects using aerosols 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/04
출원번호 US-0984413 (1997-12-03)
발명자 / 주소
  • Ferrell Gary W.
  • Spencer Thomas D.
출원인 / 주소
  • Ferrell
  • Gary W.
대리인 / 주소
    Schipper
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 20

초록 ▼

Methods for drying and cleaning objects that may have been wetted or contaminated in a manufacturing process. The objects are submerged in a rinse liquid in an enclosed chamber, and aerosol particles from a selected liquid are introduced into the chamber above the rinse liquid surface, forming a thi

대표청구항 ▼

[ We claim:] [1.] A method for removing at least one contaminant particle having diameter of at least 0.3 .mu.m from at least one exposed surface of an object, the method comprising the steps of:placing a selected object to be cleaned in an enclosed chamber;admitting a sufficient amount of a rinse l

이 특허에 인용된 특허 (20) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. McConnell Christopher F. (West Chester PA) Walter Alan E. (Exton PA), Apparatus for rinsing and drying surfaces.
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  2. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Apparatus for treating semiconductor wafers.
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  3. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Apparatus for treating wafers with process fluids.
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  4. Fujikawa Kazonori (Shiga JPX) Tanaka Masato (Shiga JPX) Muraoka Yusuke (Kyoto JPX), Device for rinsing and drying substrate.
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  5. Ferrell Gary W. (608 Terrace Ave. Half Moon Bay CA 94019), Method and apparatus for drying objects using aerosols.
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  6. Ferrell Gary W. (608 Terrace Ave. Half Moon Bay CA 94019), Method and apparatus for drying parts and microelectronic components using sonic created mist.
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  7. Bran Mario E. (Garden Grove CA), Method and apparatus for drying semiconductor wafers.
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  8. McConnell Christopher F. (978 S. Gulph Rd. Gulph Mills PA 19406) Walter Alan E. (606 Brecknock Dr. Exton PA 19341), Method and system for fluid treatment of semiconductor wafers.
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  9. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Method and system for fluid treatment of semiconductor wafers.
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  10. Bonora Anthony C. ; Kedarnath N. ; Oen Joshua T., Method for dry cleaning clean room containers.
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  11. McConnell Christopher F. (Two Soldiers Field Park Boston MA 02163), Method of treating wafers with fluid.
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  12. Britten Jerald A. (Oakley CA), Moving zone Marangoni drying of wet objects using naturally evaporated solvent vapor.
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  13. McConnell Christopher F. (West Chester PA) Walter Alan E. (Exton PA), Process and apparatus for drying surfaces.
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  14. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Process and apparatus for treating wafers with process fluids.
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  15. Chun Chung-Hwan (Gleichen DEX) Koppenwallner Georg (Gttingen DEX), Process and appliance for conveying liquid or gaseous fluids.
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  16. Ueno Kinya,JPX, Spin cleaning method.
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  17. Thomas Huw K. (West Chester PA) Carolin Roger A. (Malvern PA) Erhardt Heinrich S. (Downingtown PA) McConnell Christopher F. (Berwyn PA), Static megasonic cleaning system for cleaning objects.
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  18. McConnell Christopher F. (978 S. Gulph Rd. Gulph Mills PA 19406), Vessel and system for treating wafers with fluids.
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  19. McConnell Christopher F. (978 S. Gulph Rd. Gulph Mills PA 19406), Vessel and system for treating wafers with fluids.
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  20. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA), Vessel and system for treating wafers with fluids.
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이 특허를 인용한 특허 (27) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C.; Thomas, Clint; Parks, John, Apparatus and system for cleaning a substrate.
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  2. Ferrell Gary W. ; Spencer Thomas D. ; Carter Rob E., Apparatus for drying and cleaning objects using controlled aerosols and gases.
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  3. de Larios,John M.; Owczarz,Aleksander; Schoepp,Alan; Redeker,Fritz, Apparatuses and methods for cleaning a substrate.
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  4. King, Jeffrey M.; Morse, Leroy R.; Dempsey, Hoa T.; Stapleton, Erika L., En masse process for cleaning thin polarizing glass devices.
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  5. Subramanian, Ramkumar; Templeton, Michael K.; Singh, Bhanwar, Integrated equipment to drain water-hexane developer for pattern collapse.
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  6. Michael George Arnott GB; Simon Roger Johnson GB; Victor Carey Humberstone GB; Richard Wilhelm Janse Van Rensburg GB, Liquid projection apparatus.
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  7. Freer, Erik M.; deLarios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and apparatus for cleaning a semiconductor substrate.
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  8. Freer, Erik M.; deLarios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and apparatus for cleaning a semiconductor substrate.
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  9. de Larios, John M.; Ravkin, Mike; Farber, Jeffrey; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and apparatus for cleaning a substrate using non-Newtonian fluids.
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  10. de Larios, John M.; Ravkin, Mike; Farber, Jeffrey; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and apparatus for cleaning a substrate using non-newtonian fluids.
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  11. Sotojima, Takazo; Maeda, Norio, Method and apparatus for drying substrate.
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  12. Zhu, Ji; Mendiratta, Arjun; Mui, David, Method and apparatus for removing contaminants from substrate.
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  13. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C.; Thomas, Clint; Parks, John, Method and apparatus for removing contamination from substrate.
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  14. de Larios,John M.; Ravkin,Mike; Parks,John; Korolik,Mikhail; Redeker,Fred C., Method and apparatus for transporting a substrate using non-Newtonian fluid.
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  15. Maeda,Norio; Sumi,Koji; Aihara,Hiroshi; Oono,Masao; Matsumoto,Takao; Izutani,Naoaki, Method and device for drying substrate.
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  16. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and material for cleaning a substrate.
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  17. Korolik, Mikhail; Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Mike; Redeker, Fritz, Method and system for using a two-phases substrate cleaning compound.
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  18. Korolik, Mikhail; Ravkin, Michael; deLarios, John; Redeker, Fritz C.; Boyd, John M., Method for removing material from semiconductor wafer and apparatus for performing the same.
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  19. Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Mike; Redeker, Fritz; de Larios, John M.; Freer, Erik M.; Korolik, Mikhail, Methods for contained chemical surface treatment.
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  20. Tran,Hai, Reticle carrier apparatus and method that tilts reticle for drying.
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  21. Stein, Nathan D.; Achkire, Younes; Franklin, Timothy J.; Svirchevski, Julia; Marohl, Dan A., Single wafer apparatus for drying semiconductor substrates using an inert gas air-knife.
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  22. Tanaka, Hiroshi; Nakao, Hidetoshi; Shindo, Naoki; Yamashita, Atushi; Hirayama, Tsukasa; Tsurusaki, Kotaro, Substrate drying processing apparatus, method, and program recording medium.
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  23. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Mikhaylichenko, Katrina; Redeker, Fritz C., Substrate preparation using stabilized fluid solutions and methods for making stable fluid solutions.
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  24. Kittle, Paul A., Surface treatment of semiconductor substrates.
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  25. Ferrell,Gary W.; Ratra,Jagjit S., Wafer dryer and method for drying a wafer.
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  26. Huang, Hsing-Kai, Wafer dryer system for PRS wet bench.
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  27. Kedo Yutaka ; Takemura Yoshio,JPX ; Matsuda Susumu,JPX, Wafer drying device and method.
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