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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0954387 (1997-10-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 86 인용 특허 : 3 |
Plasma process control arrangement controls a plasma generator that provides electrical power to a plasma chamber for an RF or DC plasma process. A sensor system detects operating parameters of the electrical power, including voltage and current levels. A process detection system (pds) controller ha
[ We claim:] [1.] Plasma process control arrangement wherein a plasma generator means provides electrical power to a plasma chamber for conducting a plasma process at a controlled level, said electrical power having detectable operating parameters including voltage and current levels, and in which a
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