최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0047402 (1998-03-25) |
우선권정보 | JP-0073892 (1997-03-26) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 36 인용 특허 : 4 |
A heating pressure processing apparatus in which gas sealing property and safety can be ensured, and economic property can be improved in heating pressure processing of workpieces such as Si wafers sheet by sheet. A processing vessel 1 formed of vessel components 2, 3 is divided into at least two pa
[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for heating and processing a workpiece under conditions of high-pressure gas atmosphere, comprising:a high-pressure vessel formed of a plurality of vessel components, said vessel components being mutually closed to form a closed processing space;an actuator c
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.