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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0862605 (1997-05-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 16 |
A plasma chamber for use in isotope enrichment has a microwave feed to the ECRH microwave horns, which feed is led into the plasma chamber behind the sputter plate and perpendicular to the magnetic field for improved microwave waveguide routing and ease of microwave window handling and maintenance.
[ We claim:] [1.] An improvement in a plasma chamber having a source region and an enrichment region contained within said plasma chamber, said source region provided with a plasma source for producing a plasma, said improvement comprising:a magnet assembly for generating a shaped magnetic field in
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