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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0710419 (1996-09-17) |
우선권정보 | JP-0029918 (1996-01-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 26 인용 특허 : 6 |
A solid silica derivative which is represented by the general formula H.sub.n SiO.sub.(4-n)/2 wherein n is a real number larger than 0 but smaller than 2 and which contains Si--H bond, said solid silica derivative being able to be easily produced in a high yield by subjecting to hydrolysis-condensat
[ What is claimed is:] [1.] A process for producing a Si--H bond-containing solid product which is represented by the formula H.sub.n SiO.sub.(4-1)/2 wherein n is a positive number of 0.7 to 1.3, which process comprises subjecting to hydrolysis-condensation an alkoxysilane represented by the general
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