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Distance measurement device

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02B-021/06
출원번호 US-0075195 (1998-05-11)
우선권정보 JP-0120500 (1997-05-12)
발명자 / 주소
  • Nonaka Osamu,JPX
출원인 / 주소
  • Olympus Optical Co., Ltd., JPX
대리인 / 주소
    Pillsbury Madison & Sutro LLP
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 4

초록

A distance measurement device of the present invention detects a subject image with separation from the background and determines the distance to the subject regardless of backlit or forelit situations. In the distance measurement device, the subject is imaged onto two sensor arrays through differen

대표청구항

[ I claim:] [1.] A distance measurement device which forms each of two images of a subject which are incident through two optical paths having parallax onto a respective one of two opto-electric conversion sensor arrays and senses the displacement of one of two images signals output from the sensor

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Utagawa Ken (Yokohama JPX), Focus adjuster.
  2. Utagawa Ken (Yokohama JPX), Focus adjuster.
  3. Yokoyama Shotaro (Kanagawa JPX) Nishibe Takashi (Kanagawa JPX), Object-detecting system for optical instrument.
  4. Kondou Yasukazu (Kyoto JPX) Hikita Hiroaki (Kyoto JPX), Optical apparatus for use in image recognition.

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Nozaki, Hirotake; Ohmura, Akira, Camera having face detection and with automatic focus control using a defocus amount.
  2. Ray, Lawrence A.; Nicponski, Henry, Face detecting camera and method.
  3. Ray, Lawrence A.; Nicponski, Henry, Face detecting camera and method.
  4. Lin, Mou-Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  5. Lin, Mou-Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  6. Lin, Mou-Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  7. Lin, Mou-Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  8. Lin, Mou-Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  9. Lin, Mou-Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  10. Lin, Mou-Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  11. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  12. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  13. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  14. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  15. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  16. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  17. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  18. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  19. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  20. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  21. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
  22. Lin,Mou Shiung, Top layers of metal for high performance IC's.
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