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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0977019 (1997-11-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 68 인용 특허 : 6 |
An apparatus, method, and system for Rapid Thermal Processing (RTP), whereby the object to be processed is rotated under the radiation sources of the RTP system by a gas jet system, is presented.
[ We claim:] [1.] An apparatus for rapid thermal processing (RTP) of a semiconductor wafer in an RTP system, comprising:a base, the base having at least one gas flow channel for impinging a first gas flow on a rotatable wafer holder in the RTP system, the first gas flow acting primarily to support t
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