[특허]System for containing and handling toxic gas and methods for containing and handling same

The Dumont Co., Inc.

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System for containing and handling toxic gas and methods for containing and handling same

특허상세정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B65D-090/04 B65D-025/18 G01M-003/32 G08B-021/00
미국특허분류(USC)	73/049.2 ; 220/041.2 ; 73/040 ; 588/016 ; 588/260
출원번호	US-0312441 (1999-05-14)
발명자 / 주소	Cartwright Ronald H. Haylin Dennis
출원인 / 주소	The Dumont Co., Inc.
대리인 / 주소	Allen, Dyer, Doppelt, Milbrath & Gilchrist, P.A.
인용정보	피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 29

초록
▼

A system, container, and methods are provided for containing and handling a toxic gas. The system preferably includes a first container having toxic gas stored therein and a second container including a base and a lid mounted to the base when in a closed position. The base has an inner chamber formed therein, and the first container is preferably mounted in the inner chamber so that an interstitial space is formed around at least portions of the first container. The system also preferably includes a toxic gas use remover connected to the first container and extending through the second container for removing toxic gas from the first container for use and a toxic gas detoxifying remover connected to the second container for removal of toxic gas when located within the interstitial space of the second container and for detoxifying the toxic gas thereafter.

대표
청구항
▼

[ What is claimed is:] [1.] A system for containing and handling a toxic gas for intended use in an external application, the system comprising:a first container having toxic gas stored therein;a second container including a base, a lid mounted to the base when in a closed position, and a first sealing material flexibly and abuttingly contacting the lid and the base for providing a flexible and secure seal with the base when the lid is in the closed position the base having an inner chamber formed therein, the first container being mounted in the inner chamber so that an interstitial space is formed around at least portions of the first container, the interstitial space being initially substantially filled with a non-toxic gas, the base further having a bottom and a plurality of side walls connected to and extending upwardly from the bottom so as to define at least portions of the inner chamber and a plurality of openings formed in at least one of the plurality of side walls;toxic gas use removing means connected to the first container and extending through at least one of the plurality of openings of the second container for removing toxic gas from the first container for use intended;toxic gas detoxifying removing means connected to the second container for removing leaked toxic gas when located within the interstitial space of the second container and for detoxifying the toxic gas thereafter; anda second sealing material abuttingly contacting outer peripheries of the each of the plurality of openings and each of the toxic gas use removing means and the toxic gas detoxifying means for sealing the same from any undesired leakage in the plurality of openings of the at least one wall of the plurality of side walls of the base.

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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