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High temperature shape memory effect in ruthenium alloys 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C22C-005/04
  • C22K-001/00
출원번호 US-0940735 (1997-09-30)
발명자 / 주소
  • Fonda Richard
  • Vandermeer Roy
  • Jones Harry
출원인 / 주소
  • The United States of America as represented by the Secretary of the Navy
대리인 / 주소
    McDonnell
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 1

초록

The shape memory effect is displayed by near-equiatomic ruthenium alloys of Ta or Nb with compositions of Ta.sub.x Ru.sub.1-x where x can be as low as 0.38 and preferably x=0.44 to 0.63 and Nb.sub.x Ru.sub.1-x where x can be as low as 0.25 and preferably x=0.45 to 0.59 which exhibit a transition fro

대표청구항

[ What is claimed is:] [11.] A method of preparing a shape memory alloy comprising the steps of:1) forming an alloy having the composition ofNb.sub.x Ru.sub.1-x where x is about 0.25 to 0.59 in atomic ratio o a desired shape above a transition temperature, or alternatively, imparting the desired sha

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Fleischer Robert L. (Schenectady NY), Ruthenium tantalum intermetallic compounds containing iron or cobalt.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Wu Yi-Yung,TWX ; Wuu Dong-Sing,TWX ; Chan Chia-Chi,TWX ; Horng Ray-Hua,TWX, Heat-generating resistor and use thereof.
  2. Misra, Veena; Zhong, Huicai; Hong, ShinNam, High/low work function metal alloys for integrated circuit electrodes.
  3. Lin, Chin-Hsu; Browne, Alan L.; Johnson, Nancy L.; Aase, Jan H., Method and apparatus for temperature-compensated energy-absorbing padding.
  4. Sherwin, Yang; Ulmer, Donald G., Method for vibration damping using superelastic alloys.
  5. Malas James C. ; Frazier W. Garth ; Medina Enrique A. ; Seetharaman Venkat ; Venugopal S. ; Irwin R. Dennis ; Mullins William M. ; Medeiros Steven C. ; Chaudhary Anil ; Srinivasan Raghavan, Optimization and control of microstructure development during hot metal working.
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