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Two camera diameter control system with diameter tracking for silicon ingot growth 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C30B-015/22
출원번호 US-0005773 (1998-01-12)
발명자 / 주소
  • LaBrie Aaron
  • Baba Masahiko
출원인 / 주소
  • SEH America, Inc.
대리인 / 주소
    Evenson, McKeown, Edwards & Lenahan, P.L.L.C.
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 12

초록

A method and apparatus for measuring and controlling the diameter of a silicon single crystal ingot grown by the Czochralski technique using dual optical cameras focused on diametrically opposed edges of the meniscus of the growing crystal to measure the actual crystal diameter. The crystal growth p

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A method of measuring the diameter of a crystal pulled from a melt comprising the steps of:orienting a first detector to sight said first detector at a first meniscus point where the crystal emerges from the melt;orienting a second detector to sight said second detector a

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Katsuoka Nobuo (Takasaki JPX) Hirano Yoshihiro (Annaka JPX) Tomita Munenori (Annaka JPX) Ozaki Atsushi (Annaka JPX), Apparatus for adjusting initial position of melt surface.
  2. Shiraishi Yutaka (Hiratsuka JPX) Chang Yihao (Kanata CAX), Apparatus for detecting the diameter of a single-crystal silicon.
  3. Bonora Anthony C. (Palo Alto CA), Automatic diameter control for crystal growing facilities.
  4. Baba Masahiko (Annaka JPX) Ibe Hiroyuki (Hukui JPX), Crystal diameter measuring device.
  5. Scholl Richard A. (Palo Alto CA) Cole John L. (Fremont CA), Method for circumferential dimension measuring and control in crystal rod pulling.
  6. Fuerhoff Robert H. (St. Charles MO), Method for controlling growth of a silicon crystal.
  7. Von Ammon Wilfried,DEX ; Weidner Herbert,DEX ; Thanner Ludwig,DEX, Method for determining the diameter of a growing monocrystal.
  8. Katsuoka Nobuo (Takasaki JPX) Hirano Yoshihiro (Annaka JPX) Ozaki Atsushi (Annaka JPX) Baba Masahiko (Annaka JPX), Method for measuring the diameter of a single crystal ingot.
  9. Baba Masahiko (Annaka JPX) Ohtsuna Hiroshi (Sabae JPX), Method of and device for diameter measurement used in automatically controlled crystal growth.
  10. Fuerhoff Robert H. (St. Charles MO), Non-distorting video camera for use with a system for controlling growth of a silicon crystal.
  11. Scheel Hans L. (36 ; Chemin de la Clergere CH-1009 Pully VD CHX), Process and device for pulling crystals according to the Czochralski method.
  12. Fuerhoff Robert H. (St. Charles MO), System for controlling growth of a silicon crystal.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Altukoff, Leo N.; Mayer, Mike W.; White, Barton V., Calibration method and device for visual measuring systems.
  2. Altekruger Burkhard,DEX ; Aufreiter Joachim,DEX ; Bruss Dieter,DEX ; Kalkowski Klaus,DEX, Device and a process for monitoring a melt for the production of crystals.
  3. Burkhard Altekruger DE; Joachim Aufreiter DE; Dieter Bruss DE; Klaus Kalkowski DE, Device and method for the determination of diameters of crystals.
  4. Masuda, Naoki; Yanagimachi, Takahiro, Method for calculating a height position of silicon melt surface, method for pulling silicon single crystal, and silicon single crystal pulling apparatus.
  5. Orschel, Benno; Takanashi, Keiichi, Method for correcting speed deviations between actual and nominal pull speed during crystal growth.
  6. Ohtsuna, Hiroshi; Iwasaki, Atsushi, Method for detecting diameter of single crystal, single-crystal manufacturing method by using the same and single-crystal manufacturing apparatus.
  7. Takanashi,Keiichi; Maeda,Tokuji; Hamada,Ken, Method for pulling a single crystal.
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