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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0005773 (1998-01-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 12 |
A method and apparatus for measuring and controlling the diameter of a silicon single crystal ingot grown by the Czochralski technique using dual optical cameras focused on diametrically opposed edges of the meniscus of the growing crystal to measure the actual crystal diameter. The crystal growth p
[ What is claimed is:] [1.] A method of measuring the diameter of a crystal pulled from a melt comprising the steps of:orienting a first detector to sight said first detector at a first meniscus point where the crystal emerges from the melt;orienting a second detector to sight said second detector a
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