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Vacuum processing apparatus with low particle generating vacuum seal 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • E06B-007/16
출원번호 US-0838383 (1997-04-08)
발명자 / 주소
  • Hurwitt
  • deceased Steven D.
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited, JPX
대리인 / 주소
    Wood, Herron & Evans, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 9

초록

A wafer processing apparatus is provided with sealing ports between adjacent evacuatable chambers that are actuated to compress elastomeric seals carried by the valve sealing elements to differing degrees of compression, based on the amount of pressure differential between the chambers when sealed.

대표청구항

[ From the above, it will be readily apparent to those skilled in the art that variations or additions may be made to the embodiments described above without departing from the principles of the present invention. Accordingly, what is claimed is:] [1.] A wafer processing apparatus comprising:a plura

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. della Porta Paolo (Milan ITX), High purity gas delivery control assembly.
  2. Lorimer D\Arcy H. (Pismo Beach CA), Low particulate slit valve system and method for controlling same.
  3. Class Walter H. (Yonkers NY) Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) Hill Michael L. (New York NY), Magnetron reactive bias sputtering method and apparatus.
  4. Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ), Method and apparatus for reducing particulate contamination.
  5. Hurwitt Steven (Park Ridge NJ), Method of preventing condensation of air borne moisture onto objects in a vessel during pumping thereof.
  6. Lantsman Alexander D. (Middletown NY), Plasma sputter etching system with reduced particle contamination.
  7. Tepman Avi (Cupertino CA) Andrews Dana L. (Mountain View CA), Slit valve apparatus and method.
  8. Canaan Mark A. (San Luis Obispo CA) Nichols Joseph H. (San Luis Obispo CA) Obermeyer Charles M. (Littleton CO) Hendry Ronald G. (Los Osos CA), Ultrahigh purity gas valve with encapsulated bellows.
  9. Clayton Hadwen A. (Bartlesville OK), Valve control apparatus and method.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Schieve, Eric W.; Lei, Lawrence Chung-Lai, Apparatus having platforms positioned for precise centering of semiconductor wafers during processing.
  2. Newman, Jacob; Burns, Douglas H., Balanced purge slit valve.
  3. Stevens, Ronald R., Bellows isolation for index platforms.
  4. Kurita,Shinichi; Lee,Ke Ling; Blonigan,Wendell T, Methods and apparatus for sealing an opening of a processing chamber.
  5. Maung, Myo Myint, Multiple speed slit valve controller.
  6. Choi, Jae-Sun; Han, Chi-Ho; Jang, Ki-Joong; Jung, Jin-Su, Semiconductor manufacturing apparatus and control method thereof.
  7. Blahnik,Jeff; Kraus,Joe; Rice,Mike, Single-sided inflatable vertical slit valve.
  8. Blonigan,Wendell; Beer,Emanuel; Suh,Dongchoon; Munoz,Jaime; Kim,Sam H., Slit valve method and apparatus.
  9. Kouketsu, Masayuki, Vacuum pressure control apparatus.
  10. Singh, Harmeet, Vacuum seal arrangement useful in plasma processing chamber.
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