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UV dryer with improved reflector 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F26B-003/34
출원번호 US-0155657 (1999-04-02)
우선권정보 GB-0007129 (1996-04-04)
국제출원번호 PCT/GB97/00940 (1997-04-02)
§371/§102 date 19990402 (19990402)
국제공개번호 WO-9738275 (1997-10-16)
발명자 / 주소
  • Rae Malcolm Charles,GBX
출원인 / 주소
  • GEW (EC) Limited, GBX
대리인 / 주소
    Sughrue, Mion, Zinn, Macpeak & Seas, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 7

초록

This invention relates to UV dryers and provides an ultraviolet dryer wherein a UV lamp (2) is supported in a reflector housing (1), said housing including a reflector body member (10) having a reflective surface adjacent the lamp (2) and other surfaces spaced therefrom and cooling means (11) for pa

대표청구항

[ I claim:] [1.] A UV dryer for drying photopolymerisable ink on a web wherein a UV lamp (2) is supported within a reflector housing (1), said housing including a reflector body (10) having curved reflector surfaces disposed to reflect UV light onto a web, characterised in that each of the reflector

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Troue Harden Henry (Plainfield IN), Apparatus for delivering relatively cold UV to a substrate.
  2. Rudd Paul D., Coating dryer system.
  3. Villaverde ; Sr. Fernando (Piscataway NJ) Villaverde ; Jr. Fernando (Piscataway NJ), Drying apparatus for a dry off-set printing press having an ultra-violet lamp assembly.
  4. Keller Alfred (Leinfelden-Echterdingen DEX), Installation for the thermal drying of strips, sheets, etc., of material.
  5. Ramler ; Warren J. ; Lackore ; James K., Method for crosslinking ultraviolet light curable coatings.
  6. Toyama Hideo,JPX, Process for ultraviolet curing.
  7. Jung Joachim,DEX ; Schwarz Bernd,DEX, Ultraviolet emitter.

이 특허를 인용한 특허 (11)

  1. Haile, Danny Lee, Devices and methods for curing nail gels.
  2. Codos, Richard N., Method and apparatus for ink jet printing on rigid panels.
  3. Codos,Richard N., Method and apparatus for ink jet printing on rigid panels.
  4. Otsuka, Takahisa; Shibata, Tsuyoshi, Substrate processing apparatus.
  5. Otsuka, Takahisa; Shibata, Tsuyoshi, Substrate processing method.
  6. Varadarajan, Bhadri N.; Van Schravendijk, Bart, Systems and methods for at least partially converting films to silicon oxide and/or improving film quality using ultraviolet curing in steam and densification of films using UV curing in ammonia.
  7. Varadarajan, Bhadri N; Van Schravendijk, Bart, Systems and methods for at least partially converting films to silicon oxide and/or improving film quality using ultraviolet curing in steam and densification of films using UV curing in ammonia.
  8. Haile, Danny Lee; Cheng, Kuo-Chang; Li, Yu-Jen; Wu, Ya-Wen; Yang, Pei-Chen, UV LED curing apparatus with improved housing and switch controller.
  9. Li, Yu-Jen; Cheng, Kuo-Chang; Wu, Ya-Wen; Yang, Pei-Chen, UV LED curing apparatus with improved housing and switch controller.
  10. Treichel, Oliver; Ebinger, Klaus; Jung, Joachim; Jung, legal representative, Stefan; Niemann, nee Jung, legal representative, Melanie; Jung, legal representative, Carsten; Fuchs, Günter, UV irradiation unit for substrates.
  11. Sakai, Kazuhiro; Miyamae, Takuya; Ono, Kenichirou; Fujima, Takanobu; Iwazaki, Ryuichi, Ultraviolet irradiator and ultraviolet irradiating apparatus using the same.
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