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Compliant process cassette 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65D-085/30
  • A47F-005/00
출원번호 US-0920347 (1997-08-27)
발명자 / 주소
  • Senn Anthony
출원인 / 주소
  • SCP Global Technologies
대리인 / 주소
    Limbach & Limbach
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 13

초록

A cassette for supporting substantially planar objects such as photomasks, glass plates or semiconductor wafers during processing. The cassette is composed of bars connected at each end to an endpiece. Arms which form part of the endpiece are hinged to permit the side bars of the cassette to move in

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A compliant cassette for holding and transporting at least one substantially planar object, said cassette comprising:two side bars having comb projections;a center bar substantially parallel with the side bars positioned below the side bars and at approximately an equal d

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Ohmori Masashi (Itami JPX) Kotoh Satoru (Amagasaki JPX) Nakajima Shinji (Amagasaki JPX), Cleaning apparatus.
  2. Seiichiro Aigo (3-15-13 ; Negishi,Daito-ku Tokyo JPX), Over-flow tank for a semiconductor wafer washing apparatus.
  3. Tams ; III Frederick J. (Trenton NJ), Processing rack.
  4. Blome Eugene R. (San Jose CA), Processing, shipping and/or storage container for photomasks and/or wafers.
  5. Quernemoen Daniel R. (Chaska MN), Reinforced carrier with embedded rigid insert.
  6. Ohmori Masashi (Itami JPX) Tanaka Hiroshi (Itami JPX) Nishimoto Akira (Itami JPX) Sasai Hiroshi (Itami JPX) Fujino Naohiko (Amagasaki JPX) Kotoh Satoru (Amagasaki JPX), Semiconductor cleaning apparatus and wafer cassette.
  7. Lee Steven N. (Irvine CA), Side lifting wafer boat assembly.
  8. Stempinski George (24 S. Minisink Ave. Sayreville NJ 08872), Storage rack.
  9. Nishi Mitsuo (Kurume JPX) Miyazaki Takanori (Kumamoto JPX) Mukai Eiichi (Kurume JPX) Kamikawa Yuuji (Uto JPX) Tanaka Hiroshi (Kurume JPX), Substrate washing device.
  10. Lee Steven N. (Irvine CA), Wafer boat.
  11. Armstrong Richard J. (Phoenix AZ), Wafer carrier and method.
  12. Kudo Hideo (Fukushima JPX) Uchiyama Isao (Fukushima JPX), Wafer cleaning tank.
  13. Bracher Bernhard (Balzers LIX), Wafer support.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Fishkin, Boris; Sherrard, Michael, Apparatus for cleaning and drying substrates.
  2. Yudovsky, Joseph; Cook, Robert C.; Merry, Nir, Batch deposition tool and compressed boat.
  3. Herbst, Tim W.; Maciej, Todd K.; Gast, Tracy A.; Wagener, Thomas J.; Siefering, Kevin L., Edge gripping device for handling a set of semiconductor wafers in an immersion processing system.
  4. Tinnemans,Patricius Aloysius Jacobus; Buis,Edwin Johan; Donders,Sjoerd Nicolaas Lambertus; Van Elp,Jan; Hoogkamp,Jan Frederik; Van Meer,Aschwin Lodewijk Hendricus Johannes; Smulders,Patrick Johannes Cornelus Hendrik; Spanjers,Franciscus Andreas Cornelis Johannes; Vermeulen,Johannes Petrus Martinus Bernardus; Visser,Raimond; Tegenbosch,Henricus Gerardus; Van Den Berg,Johannes Charles Adrianus; Van De Sande,Henricus Johannes Adrianus; Vervoort,Thijs, Lithographic support structure.
  5. Bottos, Jim; Mancuso, Tom; Kashkoush, Ismail, Low profile wafer carrier.
  6. Montierth,Garry L.; Miranda,Henry R.; Maraviov,Sharyl L.; Busnaina,Ahmed A., Method and apparatus to process substrates with megasonic energy.
  7. Christenson, Kurt K.; Rathman, Christina A., Semiconductor wafer cleaning systems and methods.
  8. Achkire, Younes; Lerner, Alexander N; Govzman, Boris; Fishkin, Boris; Sugarman, Michael N; Mavliev, Rashid A; Fang, Haoquan; Li, Shijian; Shirazi, Guy E; Tang, Jianshe, Single wafer dryer and drying methods.
  9. Buckley,Richard F., Slip resistant horizontal semiconductor wafer boat.
  10. Toshitsugu Yajima JP; Hiroyuki Funami JP, Support device for a wafer shipping container.
  11. Christenson,Kurt Karl; Lee,Nam Pyo; Michalko,Gary William; Rathman,Christina Ann, Transition flow treatment process and apparatus.
  12. Lee, Hea-Woong; Ryu, Chang-Gil; Yoon, Byoung-Moon; Jun, Yong-Myung; Han, Kang-Hee, Wafer guide for preventing wafer breakage in semiconductor cleaning apparatus.
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