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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0039439 (1998-03-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 43 인용 특허 : 24 |
An apparatus and method for selectively removing undesired material from the surface of a substrate provides a flow of inert gas over the undesired material substrate surface while irradiating the undesired material with energetic photons. The invention enables removal of undesired material without
[ What is claimed is:] [1.] A method for enhancing chemisorption of a desired material onto the treatment surface of a substrate having bond sites occupied by undesired material comprising the steps of:introducing across the treatment surface a flow of gas substantially inert to the substrate;simult
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