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Vacuum chamber bakeout procedure for preventing ion gauge failure 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-027/62
출원번호 US-0921810 (1997-09-02)
발명자 / 주소
  • Zhou Jiaxiang
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Thomason, Moser & Patterson
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 5

초록

A method for performing a bakeout test on a vacuum chamber without causing the ion gauge to fail turns the ion gauge off when it is not needed, even during part of the time that the chamber is held at a high vacuum, so as to minimize the opportunity for contaminants to react with and damage the ion

대표청구항

[ I claim:] [1.] A method of testing a vacuum system having a chamber, a high vacuum pump and a pressure gauge, comprising:pumping the chamber to a high vacuum;turning the pressure gauge on during a first period of high vacuum;turning the pressure gauge off during a second period of high vacuum;acti

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Bergquist Lyle E. (Lakewood CO), Calibration method for ultra sensitive noble gas leak detector.
  2. Shih Hung-Dah (Plano TX), MBE Source bakeout system.
  3. Chen Aihua (Sunnyvale CA) Chapman Robert A. (Sunnyvale CA), Method of purging and pumping vacuum chamber to ultra-high vacuum.
  4. Morrison Jr. Charles F. (Boulder CO), Temperature compensation for pressure gauge.
  5. Weeks Alan L. (South Easton MA) Fortier Gerald J. (Plainville MA) Matte\ Stephen R. (Norfolk MA) Gaudet Peter W. (Hyde Park MA) Stein Martin (Bedford MA) Rosner Steven C. (Charlestown MA) Lepofsky Ro, Turbomolecular pump with valves and integrated electronic controls.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Myneni, Ganapati Rao, Alternative backing up pump for turbomolecular pumps.
  2. Hong,Seung Soo; Chung,Kwang Hwa; Shin,Yong Hyeon, Apparatus for and method of measuring composition and pressure of the discharged gas from ion gauge using residual gas analyzer.
  3. Blouch, Stephen C.; Arnold, Paul C.; Brucker, Gerardo A.; Graba, Wesley J.; Hansen, Douglas C., Devices and methods for feedthrough leakage current detection and decontamination in ionization gauges.
  4. Carmichael, Larry K.; Borenstein, Michael D.; Arnold, Paul C.; Blouch, Stephen C.; Knott, Richard A., Method and apparatus for maintaining emission capabilities of hot cathodes in harsh environments.
  5. Carmichael,Larry K.; Borenstein,Michael D.; Arnold,Paul C.; Blouch,Stephen C.; Knott,Richard A., Method and apparatus for maintaining emission capabilities of hot cathodes in harsh environments.
  6. Garza,Frederico; Wright,Michael; Peterson,Karl, Utilization of an ion gauge in the process chamber of a semiconductor ion implanter.
  7. Kikukawa, Shuuichi; Kojima, Katsunori; Tanimizu, Tooru; Morita, Ayumu; Tsuji, Masashige, Vacuum switch including vacuum-measurement devices, switchgear using the vacuum switch, and operation method thereof.
  8. Shuuichi Kikukawa JP; Katsunori Kojima JP; Tooru Tanimizu JP; Ayumu Morita JP; Masashige Tsuji JP, Vacuum switch including vacuum-measurement devices, switchgear using the vacuum switch, and operation method thereof.
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