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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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출원번호 | US-0063405 (1998-04-21) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 25 |
A substrate made of polycrystalline .beta.SiC and having an essentially pore free surface is disclosed. The substrate is adapted for use as a chip wafer to receive different thin film coatings as part of manufacturing electrical devices and integrated circuits. The substrate comprises a polycrystall
[ I claim:] [1.] A laminate comprisinga) a chip wafer substrate component comprising a working surface, at least a portion of the working surface further comprising a polycrystalline beta silicon carbide outer surface with {111} crystallographic planes exposed on the working surface, without exposed
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