[특허]Method for radiofrequency wave etching

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[미국특허] Method for radiofrequency wave etching 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01L-021/311
출원번호	US-0533562 (1995-09-25)
발명자 / 주소	Reinhard Donnie K. Chakraborty Rabindra N. Asmussen Jes Goldman Paul D.
출원인 / 주소	Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation
대리인 / 주소	McLeod
인용정보	피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 9

초록 ▼

A method for selective controlled etching of a material particularly by sequentially switching between two (2) or more modes of radiofrequency waves and/or by distance from a source of the microwaves. The modes and/or distance are selected depending upon the surface of the material to be etched. The

대표청구항

[ We claim:]

이 특허에 인용된 특허 (9) 인용/피인용 타임라인 분석

Asmussen Jes (Okemos MI) Zhang Jie (East Lansing MI), Apparatus for the coating of material on a substrate using a microwave or UHF plasma.
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Yamano Atsuhiro (Hyogo JPX) Kubota Masafumi (Osaka JPX) Harafuji Kenji (Osaka JPX), Dry etching method and dry etching apparatus.
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Roppel Thaddeus A. (Okemos MI) Asmussen Jes (Okemos MI) Reinhard Donnie K. (East Lansing MI), Dual plasma microwave apparatus and method for treating a surface.
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Nishibayashi Yoshiki (Hyogo JPX) Fujimori Naoji (Hyogo JPX), Etching method.
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Asmussen Jes (Okemos MI) Root Joseph J. (East Lansing MI), Ion generating apparatus and method for the use thereof.
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Kanai Saburo,JPX ; Kawasaki Yoshinao,JPX ; Ichihashi Kazuaki,JPX ; Watanabe Seiichi,JPX ; Nawata Makoto,JPX ; Furuse Muneo,JPX ; Kaji Tetsunori,JPX, Microwave plasma processing method and apparatus.
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Asmussen Jes (Okemos MI) Reinhard Donnie K. (East Lansing MI) Dahimene Mahmoud (East Lansing MI), Plasma generating apparatus using magnets and method.
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Paranjpe Ajit P. (Plano TX), RF induction plasma source for plasma processing.
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Asmussen Jes (Okemos MI) Hopwood Jeffrey A. (Haslett MI), Resonant radio frequency wave coupler apparatus using higher modes.
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이 특허를 인용한 특허 (7) 인용/피인용 타임라인 분석

Rudolph, Matthias; Stolze, Jens; Morgenstern, Thomas; Haensel, Jana, Etching processing method for a material layer.
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Urban, Andrea; Laermer, Franz; Breitschwerdt, Klaus; Becker, Volker, Method of etching structures into an etching body using a plasma.
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Chiu, Eddie; Chen, Cindy Wailam; Su, Yuh-Jia; Graff, Wesley Phillip, Methods for post polysilicon etch photoresist and polymer removal with minimal gate oxide loss.
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Asmussen, Jes; Grotjohn, Timothy; Reinhard, Donnie K.; Schuelke, Thomas; Yaran, M. Kagan; Hemawan, Kadek W.; Becker, Michael; King, David; Gu, Yajun; Lu, Jing, Microwave plasma reactors.
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Asmussen, Jes; Grotjohn, Timothy; Reinhard, Donnie K.; Schuelke, Thomas; Yaran, M. Kagan; Hemawan, Kadek W.; Becker, Michael; King, David; Gu, Yajun; Lu, Jing, Microwave plasma reactors.
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Asmussen, Jes; Grotjohn, Timothy; Reinhard, Donnie K.; Schuelke, Thomas; Yaran, M. Kagan; Hemawan, Kadek W.; Becker, Michael; King, David; Gu, Yajun; Lu, Jing, Microwave plasma reactors.
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Asmussen, Jes; Gu, Yajun; Grotjohn, Timothy A., Microwave plasma reactors.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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