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Component heater for use in semiconductor manufacturing equipment 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05B-003/02
출원번호 US-0150458 (1998-09-09)
발명자 / 주소
  • Moon Roger A.
출원인 / 주소
  • Millipore Corporation
대리인 / 주소
    Gray Cary Ware & Friedenrich LLP
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 16

초록

A heating system and method used to maintain a fluid flowing through a component (such as a mass flow controller) within approximately a predetermined temperature range. The fluid flows through a cavity in the component. A heater element and a sensor are positioned within the body of the component a

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A heater system with temperature feedback for use in a manufacturing process to maintain a fluid within approximately a predetermined temperature range, comprising:a component having a body with a cavity, wherein the fluid flows through the cavity;a heater element positio

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Licinit Edward J. (Montgomery County PA) Sullivan Paul G. (Montgomery County PA), Concentric rod and tube sensor for thermal mass flow controller and flow meter.
  2. Mudd Daniel T. (Long Beach CA), Flow controller, parts of flow controller, and related method.
  3. Tanaka Junichi (Tenri JPX) Jinda Akihito (Nara JPX) Tanaka Nobuyuki (Soraku JPX) Inami Yasuhiko (Nara JPX), Flow sensor.
  4. Anderson Richard L. (Austin TX), Intelligent mass flow controller.
  5. Costantino Michael A. (San Marcos CA) Yorke William C. (Vista CA), Liquid deposition source gas delivery system.
  6. Kuramochi Atsuo (Tokyo JPX), Mass flow controller.
  7. Shimomura Mitsuzo (Miyanohigashi JPX) Yamaguchi Masao (Miyanohigashi JPX), Mass flow controller with supplemental condition sensors.
  8. Paranjpe Ajit P. (Plano TX), Method for temperature measurement in rapid thermal process systems.
  9. Moriya Shuji (Yamanashi JPX) Matsuo Takenobu (Kofu JPX) Wakabayashi Tsuyoshi (Kofu JPX), Processing apparatus and flow control arrangement therefor.
  10. Moriya Shuji (Yamanashi JPX) Matsuo Takenobu (Kofu JPX) Wakabayashi Tsuyoshi (Kofu JPX) Miura Kazutoshi (Tokyo JPX) Mori Takahiro (Sagamihara JPX), Processing apparatus using gas.
  11. Moslehi Mehrdad M. (Los Altos CA), Real-time multi-zone semiconductor wafer temperature and process uniformity control system.
  12. Hwang Chang H. (Seoul KRX), Sensor device for mass flow controller.
  13. Vavra Randall J. (Orange CA) Nguyen Lam T. (Garden Grove CA) Tran Erik Q. (Garden Grove CA), Thermal mass flow sensor.
  14. Bump Scott S. ; Campbell Gary P. ; Dille Joseph C., Thermal mass flowmeter and mass flow controller, flowmetering system and method.
  15. McMenamin Joseph C. (Oceanside CA), Vapor mass flow control system.
  16. Davis Cecil J. (Greenville TX) Jucha Rhett B. (Celeste TX) Luttmer Joseph D. (Richardson TX) York Rudy L. (Plano TX) Loewenstein Lee M. (Plano TX) Matthews Robert T. (Plano TX) Hildenbrand Randall C., Wafer processing apparatus having independently controllable energy sources.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. DiPrizio, Anthony C.; Abbott, Nathan; Vroman, Christopher; Patel, Rajnikant B.; McNamara, Eric, Low-profile surface mount filter.
  2. DiPrizio, Anthony; Abbott, Nathan; Vroman, Christopher; Patel, Rajnikant B.; McNamara, Eric, Low-profile surface mount filter.
  3. DiPrizio, Anthony; Abbott, Nathan; Vroman, Christopher; Patel, Rajnikant B.; McNamara, Eric, Low-profile surface mount filter.
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