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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0103573 (1998-06-24) |
우선권정보 | JP-0166695 (1998-06-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 10 |
A cleaning solution preparation device includes a deionized water supply source, a gas supply source, a gas-dissolving unit, and a gas supply pressure controller. The gas supply source supplies any of an oxidative gas, a reductive gas, an inert gas, a mixed gas of an oxidative gas and an inert gas,
[ What is claimed is:] [1.] A cleaning solution preparation device, comprising:a deionized water supply source;a gas supply source of any of an oxidative gas, a reductive gas, an inert gas, a mixed gas of an oxidative gas and an inert gas, or a mixed gas of a reductive gas and an inert gas;a gas-dis
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