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Semiconductor device fabrication system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/00
출원번호 US-0190339 (1998-11-12)
발명자 / 주소
  • Wu Beuan P. F.,TWX
출원인 / 주소
  • Industrial Technology Research Institute, TWX
대리인 / 주소
    Merchant & Gould P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 23  인용 특허 : 4

초록

A semiconductor device fabrication system comprises a central hub area and multiple concentric ring sections circumferentially provided around the hub area. Each of the ring sections has a plurality of modular process units (MPUs) each receiving about three in-line semiconductor device processing st

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A semiconductor device fabrication system, comprising:a central hub area;at least one ring section circumferentially provided around the hub area, the ring section including:a plurality of modular process units, each having two opposite sidewalls and two opposite endwalls

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Scott Richard G. (Austin TX) Shackleton Craig R. (Austin TX) Ellis Raymond W. (Austin TX), Integrated building and conveying structure for manufacturing under ultraclean conditions.
  2. Shimoyashiro Sadao (Fujisawa JPX) Iwasaki Takemasa (Yokohama JPX) Kawaji Hiroyuki (Yokohama JPX) Hamada Toyohide (Yokohama JPX) Ikeda Minoru (Yokohama JPX) Kikuchi Hiroshi (Hiratsuka JPX) Nagatomo Hi, Method and apparatus for carrying a variety of products.
  3. Leveen Lindsay, Microelectronic component fabrication facility, and process for making and using the facility.
  4. Higashi Kumiko (Kumamoto JPX), Rotary type apparatus for processing semiconductor wafers and method of processing semiconductor wafers.

이 특허를 인용한 특허 (23)

  1. Flitsch, Frederick A., Apparatus to support a cleanspace fabricator.
  2. Enicks, Darwin Gene; Carver, Damian, Bandgap and recombination engineered emitter layers for SiGe HBT performance optimization.
  3. Enicks,Darwin Gene; Carver,Damian, Bandgap engineered mono-crystalline silicon cap layers for SiGe HBT performance enhancement.
  4. Lam, Wei Chak Joseph, Efficient layout and design of production facility.
  5. Lam, Wei Chak Joseph, Efficient layout and design of production facility.
  6. Lam, Wei Chak Joseph, Efficient layout and design of production facility.
  7. Lam, Wei Chak Joseph, Efficient layout and design of production facility.
  8. Lam,Wei Chak Joseph, Layout of production facility.
  9. Flitsch, Frederick A., Method and apparatus for a cleanspace fabricator.
  10. Flitsch, Frederick A., Method and apparatus for an automated tool handling system for a multilevel cleanspace fabricator.
  11. Flitsch, Frederick A., Method and apparatus for an automated tool handling system for a multilevel cleanspace fabricator.
  12. Flitsch,Frederick A., Method and apparatus for an elevator system for a multilevel cleanspace fabricator.
  13. Flitsch, Frederick, Method and apparatus to support a cleanspace fabricator.
  14. Flitsch, Frederick A., Method and apparatus to support process tool modules in a cleanspace fabricator.
  15. Enicks,Darwin Gene, Method and system for controlled oxygen incorporation in compound semiconductor films for device performance enhancement.
  16. Tarr,Adam L.; Chabot,Gerald A., Method for installation of semiconductor fabrication tools.
  17. Flitsch, Frederick A., Method of forming a cleanspace fabricator.
  18. Flitsch, Frederick A., Methods and apparatus for vertically orienting substrate processing tools in a clean space.
  19. Flitsch, Frederick A., Methods and apparatus for vertically orienting substrate processing tools in a clean space.
  20. Morgan, Rodney D., Multiple connection socket assembly for semiconductor fabrication equipment and methods employing same.
  21. Martin Weltzer DE, Process for producing ultra-pure water, and configuration for carrying out a process of this nature.
  22. Enicks, Darwin G.; Friedrichs, Carl E.; Brucher, Richard A., System, apparatus and method for contaminant reduction in semiconductor device fabrication equipment components.
  23. Enicks,Darwin G.; Friedrichs,Carl E.; Brucher,Richard A., System, apparatus and method for contaminant reduction in semiconductor device fabrication equipment components.
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