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Plasma processing system and method

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05H-001/00
출원번호 US-0235943 (1999-01-22)
발명자 / 주소
  • Bluck Terry
  • Rogers James H.
  • Xie Jun
출원인 / 주소
  • Intevac, Inc.
대리인 / 주소
    Cole
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 4

초록

A substrate processing system includes a processing chamber, a substrate holder positioned in the chamber, a gas source for supplying a process gas to the chamber, at least one ion source located in the chamber, and a power source for energizing the ion source by positively biasing the anode and neg

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A substrate processing system comprising:a grounded processing chamber;a substrate holder positioned in said processing chamber;a gas source coupled to said processing chamber for supplying a process gas to said processing chamber;an ion source in said chamber for ionizin

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Disk or wafer handling and coating system.
  2. Mahler Peter (Hainburg DEX) Stang Wolfgang (Kefenrod DEX) Scherer Michael (Rodenbach DEX) Gesche Roland (Seligenstadt DEX), Dual cathode sputter coating apparatus.
  3. Sato Tatsuya (Kanagawa JPX) Ohta Wasaburo (Kanagawa JPX) Kinoshita Mikio (Kanagawa JPX), Thin film deposition system.
  4. Kennedy Thomas N. (San Jose CA) Lester William C. (Los Gatos CA) McDonough George W. (Cupertino CA) Michaelsen John D. (Los Gatos CA), Two-sided bias sputter deposition method and apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Fairbairn, Kevin P.; Bluck, Terry; Marion, Craig; Weiss, Robert E., Disk coating system.
  2. Hertel, Richard J.; Allen, Jr., Ernest E.; McGrail, Jr., Philip J., Dual sided workpiece handling.
  3. Hertel, Richard J.; Allen, Jr., Ernest E.; McGrail, Jr., Philip J., Dual sided workpiece handling.
  4. Tanaka, Samuel Lewis; Greenberg, Thomas Larson, Etching source installable in a storage medium processing tool.
  5. Ishibashi, Keiji, Hot element CVD apparatus and a method for removing a deposited film.
  6. Yamanaka,Hideo; Kaise,Kikuo, Method and apparatus for film deposition.
  7. Johnson,Wayne L., Method of fabricating oxides with low defect densities.
  8. Verhaverbeke, Steven; Nalamasu, Omkaram; Foad, Majeed A.; Venkatesan, Mahalingam; Krishna, Nety M., Patterning of magnetic thin film using energized ions.
  9. Verhaverbeke, Steven; Nalamasu, Omkaram; Foad, Majeed; Venkatesan, Mahalingam; Krishna, Nety M., Patterning of magnetic thin film using energized ions.
  10. Nalamasu, Omkaram; Verhaverbeke, Steven; Foad, Majeed; Venkatesan, Mahalingam; Krishna, Nety M., Patterning of magnetic thin film using energized ions and thermal excitation.
  11. Fairbairn, Kevin P.; Barnes, Michael S.; Bluck, Terry; Xu, Ren; Liu, Charles; Kerns, Ralph, System and method for commercial fabrication of patterned media.
  12. Barnes, Michael S.; Bluck, Terry, System and method for dual-sided sputter etch of substrates.
  13. Barnes, Michael S.; Bluck, Terry, System and method for dual-sided sputter etch of substrates.
  14. Hwang, Eric; Wang, Jinliu; White, Richard Longstreth, System, method and apparatus for filament and support used in plasma-enhanced chemical vapor deposition for reducing carbon voids on media disks in disk drives.
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