[특허]Photoresist with bleaching effect

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Photoresist with bleaching effect 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03C-005/16 G03C-001/73
출원번호	US-0627251 (1996-04-03)
우선권정보	JP-0267628 (1993-10-26)
발명자 / 주소	Kaimoto Yuko,JPX Takechi Satoshi,JPX Oikawa Akira,JPX
출원인 / 주소	Fujitsu Limited, JPX
대리인 / 주소	Arent Fox Kintner Plotkin & Kahn PLLC
인용정보	피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 8

초록 ▼

An exposure technique which accomplishes high transparency and the prevention of influence of reflected light in the ultraviolet region of KrF excimer laser light, the technique being capable of decreasing reflected light by employing a base polymer having high transparency in the ultraviolet region and by employing a bleaching agent in combination with a photo acid generator, the bleaching agent being capable of preventing the formation of eaves in an upper portion of a resist pattern.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A method of exposure to ultraviolet light, comprising the steps of:applying a resist which is a mixture of a base polymer having an adamantyl skeleton, a photo acid generator and a bleaching agent onto a substrate;selectively exposing the resist to ultraviolet light to allow the photo acid generator and the bleaching agent to generate acids; andbaking the exposed resist to deblock protective groups of the base polymer in a region exposed to ultraviolet.

이 특허에 인용된 특허 (8)

Aoai Toshiaki (Shizuoka JPX) Aotani Yoshimasa (Shizuoka JPX), Microcapsules and light-sensitive recording material using the same.
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Roeschert Horst (ober-Hilbersheim DEX) Pawlowski Georg (Wiesbaden DEX) Fuchs Juergen (Wicker DEX), Negative-working radiation-sensitive mixture, and radiation-sensitive recording material produced with this mixture.
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Takechi Satoshi (Kawasaki JPX) Takahashi Makoto (Kawasaki JPX) Kaimoto Yuko (Kawasaki JPX), Pattern formation material and pattern formation method.
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Nozaki Koji (Kawasaki JPX), Photoresist composition of 1-(1′-cyanoethenyl)adamantane.
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Ito Hiroshi (San Jose CA) Willson Carlton G. (San Jose CA) Frechet Jean M. J. (Ottawa CAX), Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile grou.
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Roeschert Horst (ober-Hilbersheim DEX) Pawlowski Georg (Wiesbaden DEX) Fuchs Juergen (Wicker DEX), Positive-working radiation sensitive mixture comprising sulfonic acid esters of 2,4,6-tris-(2-hydroxyethoxy)-[1,3,5]tria.
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Pawlowski Georg (Wiesbaden DEX) Merrem Hans-Joachim (Seeheim-Jugenheim DEX) Lingnau Juergen (Mainz-Laubenheim DEX) Dammel Ralph (Klein-Winterheim DEX) Roeschert Horst (Biebelried DEX), Positive-working radiation-sensitive mixture and copying material produced therefrom comprising an a<.
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Pawlowski Georg (Wiesbaden DEX) Merrem Hans-Joachim (Seeheim-Jugenheim DEX) Lingnau Juergen (Mainz-Laubenheim DEX) Dammel Ralph (Klein-Winternheim DEX) Roeschert Horst (Biebelried DEX), Positive-working radiation-sensitive mixture and copying material produced therefrom comprising an a<.

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이 특허를 인용한 특허 (3)

Crownover, Roy Dale, Chemical etched two dimensional matrix symbols and method and process for making same.
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Crownover, Roy Dale; Phelps, Ronnie Dwaine; Smith, Preston Cray, Chemical etched two dimensional matrix symbols and method and process for making same.
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Liu,Shenggao; Dahl,Jeremy E.; Carlson,Robert M., Photoresist compositions comprising diamondoid derivatives.
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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