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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0065654 (1998-04-23) |
우선권정보 | JP0061894 (1996-02-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 93 인용 특허 : 5 |
The present invention is related to a thin film semiconductor which can be regarded as substantially a single crystal and a semiconductor device comprising an active layer formed by the thin film semiconductor. At least a concave or convex pattern is formed intentionally on a insulating film provide
[ What is claimed:] [1.] A method for manufacturing a semiconductor device including an active layer comprising a semiconductor film, said method comprising:forming a silicon oxide film on an insulating surface;forming at least a concave or convex pattern by patterning said silicon oxide film into a
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