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[미국특허] Program controlled beam focus to compensate for thermal changes 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02B-007/02
출원번호 US-0293952 (1999-04-19)
발명자 / 주소
  • Viola David P.
출원인 / 주소
  • AGFA Corporation
대리인 / 주소
    Standicki
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 11

초록 ▼

An imaging system with beam focus adjustment, includes an emitter which emits a beam of radiation along a beam path and an optical assembly, having a focus adjustment mechanism, configured to focus the emitted beam on a medium to be imaged. A medium support member supports the medium on its support

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] An article of manufacture for adjusting the focus of a beam of radiation emitted along a beam path by a radiation generator, the radiation beam being focussed by a beam focussing device disposed in the beam path and positioned between the radiation generator and a medium

이 특허에 인용된 특허 (11) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Iwanade, Hisao, Focus and magnification determining and control device for variable magnification type copying machine.
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  2. Hamada Shuta,JPX ; Haneda Satoshi,JPX ; Nagase Hisayoshi,JPX ; Tokimatsu Hiroyuki,JPX ; Onodera Masahiro,JPX ; Miura Toshihide,JPX, Image forming apparatus having a plurality of exposure devices which are radially arranged on a common supporting member.
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  3. Yoshimoto Takeshi (Kyoto JPX) Tsuda Masanari (Kyoto JPX) Masuda Yoshikazu (Osaka JPX) Yokoi Masakatsu (Kyoto JPX), Method for focus adjustment of a picture scanning and recording system.
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  4. Tomita Satoru (Kanagawa JPX) Imakawa Susumu (Kanagawa JPX), Method of controlling the temperature of semiconductor laser in an optical device.
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  5. Rudeen Robert W., Optical system for data reading having large depth of field.
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  6. Mukai Hiromu (Kawachinagano JPX) Sugihara Yasumasa (Hashimoto JPX) Hasegawa Rieko (Sakai JPX), Photo-taking lens temperature compensation system.
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  7. Noguchi Miyoko (Tokyo JPX), Projection exposure apparatus and semiconductor device manufacturing method.
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  8. Kitagishi Nozomu (Hachioji JPX) Suzuki Shoji (Yokohama JPX) Saito Shuichiro (Yokohama JPX) Suzuki Masaharu (Kawasaki JPX) Yano Koutaro (Yokohama JPX) Matsuda Toru (Tokyo JPX) Taniguchi Makoto (Kawasa, Projection optical apparatus comprising automatic adjustment unit.
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  9. Minoura Kazuo (Yokohama JPX) Shimoda Isamu (Zama JPX), Scanning optical apparatus having focus position detector.
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  10. Smith Ronald D. (Oriskany NY), Temperature compensated positioning device.
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  11. Henry Kelley A. (Woburn MA), Weak lens focus adjusting mechanism based upon thickness of scanned material and imagesetter using same.
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이 특허를 인용한 특허 (2) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Asai, Hiromi, Image projection apparatus.
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  2. Martínez, Oscar Eduardo; Domené, Esteban Alejo; Mingolo, Nélida; Balzarotti, Francisco; Bragas, Andrea Verónica, Method and apparatus for determining the thermal expansion of a material.
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활용도 분석정보

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