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Mass flow controller having automatic pressure compensator 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G05D-007/06
출원번호 US-0362561 (1999-07-28)
발명자 / 주소
  • Waldbusser Edwin
대리인 / 주소
    Miles & Stockbridge P.C.Kerins
인용정보 피인용 횟수 : 34  인용 특허 : 1

초록 ▼

The present invention is directed to a mass flow controller having an automatic pressure compensator in the form of a dome loaded pressure regulator, wherein the dome loaded pressure regulator is, in turn, controlled by a dome-loading gas line regulated by a pilot pressure regulator. The pilot press

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A mass flow control apparatus comprising:a mass flow controller having an input and an output;a dome loaded process pressure regulator having an input for receiving incoming process gas, and an output operatively coupled to said input of said mass flow controller, for del

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Tan Jinglu (Columbia MO), Low operating power, fast-response servovalve.
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이 특허를 인용한 특허 (34)

  1. Hirata, Kaoru; Sugita, Katsuyuki; Nishino, Kouji; Dohi, Ryousuke; Ikeda, Nobukazu, Automatic pressure regulator for flow rate regulator.
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  2. Mohammed, Balarabe Nuhu; Barros, Philip; Martin, Raul A.; Crockett, Mark A.; Sklar, Eric S., Combination manual/pneumatic shut-off valve.
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  3. Dickson,Richard R.; Graze, Jr.,Russell R., Exhaust gas particulate measuring system.
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  4. Mudd, Daniel T.; Mudd, Patti J., Flow control system, method, and apparatus.
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  5. Takijiri, Kotaro; Tanaka, Yuki; Ieki, Atsushi, Flow rate control apparatus, storage medium storing program for flow rate control apparatus and flow rate control method.
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  6. Morikawa,Fumio; Kondou,Hiroshi, Flow rate control device.
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  7. Nagaoka, Hideki; Koizumi, Hiroshi; Ooyabu, Jun; Shimazu, Tsuyoshi; Endo, Hiroki; Ito, Keiki; Hayashi, Daisuke, Flow rate control system and shower plate used for partial pressure control system.
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  8. Lowery, Patrick A.; Thordarson, Petur; Laragione, Robert, Mass flow meter systems and methods.
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  9. Lowery, Patrick A.; Thordarson, Petur; Laragione, Robert, Mass flow meter systems and methods.
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  10. Lowery, Patrick A.; Thordarson, Petur; Laragione, Robert, Mass flow meter systems and methods.
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  11. Gold, Ezra Robert; Fovell, Richard Charles; Cruse, James Patrick; Lee, Jared Ahmad; Geoffrion, Bruno; Buchberger, Douglas Arthur; Salinas, Martin J., Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber.
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  12. Gold, Ezra Robert; Fovell, Richard Charles; Cruse, James Patrick; Lee, Jared Ahmad; Geoffrion, Bruno; Buchberger, Douglas Arthur; Salinas, Martin J., Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber.
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  13. Gold, Ezra Robert; Fovell, Richard Charles; Cruse, James Patrick; Lee, Jared Ahmad; Geoffrion, Bruno; Buchberger, Douglas Arthur; Salinas, Martin J., Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber.
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  14. Monkowski, Adam J.; Chen, Jialing; Ding, Tao; Monkowski, Joseph R., Method and apparatus for gas flow control.
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  15. Monkowski, Adam J.; Chen, Jialing; Ding, Tao; Monkowski, Joseph R., Method and apparatus for gas flow control.
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  16. Monkowski, Adam J.; Chen, Jialing; Ding, Tao; Monkowski, Joseph R., Method and apparatus for gas flow control.
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  17. Monkowski, Joseph R.; Chen, Jialing; Ding, Tao; Chalmers, James MacAllen, Method and apparatus for in situ testing of gas flow controllers.
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  18. Monkowski, Joseph R.; Chen, Jialing; Ding, Tao; Chalmers, James MacAllen, Method and apparatus for in situ testing of gas flow controllers.
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  19. Monkowski, Joseph R.; Chen, Jialing; Ding, Tao; MacAllen Chalmers, James, Method and apparatus for in situ testing of gas flow controllers.
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  20. Melcer,Chris; Lane,John, Method and apparatus for pressure and mix ratio control.
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  21. Lane,John; Straube,Ralph H. M.; Melcer,Chris, Method and apparatus for pressure control and flow measurement.
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  22. Tinsley,Kenneth E.; Tariq,Faisal, Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity.
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  23. Lull, John Michael; Wang, Chiun; Saggio, Jr., Joseph A., Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller.
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  24. Lull,John Michael; Wang,Chiun; Saggio, Jr.,Joseph A., Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller.
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  25. Lull,John Michael; Wang,Chiun; Saggio, Jr.,Joseph A., Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller.
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  26. Lull,John Michael; Wang,Chiun; Saggio, Jr.,Joseph A., Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller.
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  27. Nagaoka,Hideki; Koizumi,Hiroshi; Ooyabu,Jun; Shimazu,Tsuyoshi; Endo,Hiroki; Ito,Keiki; Hayashi,Daisuke, Partial pressure control system, flow rate control system and shower plate used for partial pressure control system.
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  28. Balarabe, Mohammed Nuhu; Barros, Philip; Martin, Raul A.; Crockett, Mark A.; Sklar, Eric S., Pressure-insensitive mass flow controller.
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  29. Lull, John M.; Wang, Chiun; Valentine, William S.; Saggio, Jr., Joseph A., System and method for a mass flow controller.
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  30. Lull,John M.; Wang,Chiun; Valentine,William S.; Saggio, Jr.,Joseph A., System and method for a mass flow controller.
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  31. Lull,John M; Wang,Chiun; Valentine,William S; Saggio, Jr.,Joseph A, System and method for a mass flow controller.
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  32. Lull,John M; Wang,Chiun; Valentine,William S; Saggio, Jr.,Joseph A, System and method for a mass flow controller.
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  33. Monkowski, Joseph R.; Monkowski, Adam J.; Chen, Jialing; Ding, Tao, Transient measurements of mass flow controllers.
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  34. Thordarson, Petur; Lowery, Patrick A., Variable pressure regulated flow controllers.
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