최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0468781 (1995-06-06) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 70 인용 특허 : 101 |
The present invention provides a plasma enhancement method and apparatus for electric arc vapor deposition. The plasma enhancement apparatus is positioned to act upon plasma generated from a plasma source before the plasma reaches a substrate to be coated by the plasma. The plasma enhancement appara
[ What is claimed is:] [1.] An article manufactured by an electric arc vapor deposition process, said article comprising:(a) a substrate having a surface; and(b) a layer of amorphous carbon arranged on said substrate surface, said amorphous carbon being applied to said substrate surface by electric
해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.