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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0154075 (1998-09-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 48 인용 특허 : 1 |
A method and apparatus that uses compound processing for detecting defects in integrated circuits involves processing two portions of a semiconductor wafer differently according to a first and a second process. The first process and the second process are performed on alternating columns on the wafe
[ What is claimed is:] [1.] A method of detecting defects in integrated circuits, comprising:applying a first manufacturing process to only a first portion on a starting material;applying a second manufacturing process, different from the first process, to only a second portion on the starting mater
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