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[미국특허] Plasma processing apparatus and processing method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0853449 (1997-05-09)
우선권정보 JP0125770 (1996-05-21)
발명자 / 주소
  • Teranishi Koji,JPX
  • Yamagami Atsushi,JPX
  • Takaki Satoshi,JPX
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha, JPX
대리인 / 주소
    Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 9

초록

A plasma processing apparatus has a substrate holder, arranged in a reaction vessel which can be reduced in pressure, for placing a substrate to be processed thereon, means for feeding a process gas into the reaction vessel, and a cathode electrode for supplying a high-frequency wave power from a hi

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A plasma processing apparatus comprising:a reaction vessel inside which a substrate to be processed can be housed and the internal pressure of which can be reduced, at least a part of the reaction vessel being formed of a dielectric material;a substrate holder for holding

이 특허에 인용된 특허 (9) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Tawada Yoshihisa (Kobe JPX) Nakayama Takehisa (Kobe JPX) Tai Masahiko (Otsu JPX) Ikuchi Nozomu (Nishinomiya JPX), Glow-discharge decomposition apparatus.
  2. Nakagawa Katsumi (Tokyo JPX) Komatsu Toshiyuki (Kawasaki JPX) Hirai Yutaka (Tokyo JPX) Misumi Teruo (Toride JPX) Fukuda Tadaji (Kawasaki JPX), Image-forming member for electrophotography.
  3. Ogle John S. (1472 Pashote Ct. Milpitas CA 95035), Method and apparatus for producing low pressure planar plasma using a coil with its axis parallel to the surface of a co.
  4. Yamagami Atsushi (Kawasaki JPX) Okamura Nobuyuki (Kawasaki JPX) Takaki Satoshi (Komae JPX), Plasma CVD process using a very-high-frequency and plasma CVD apparatus.
  5. Ishizuka Shuichi (Nirasaki JPX) Kawamura Kohei (Yamanashi-ken JPX) Hata Jiro (Yamanashi-ken JPX) Suzuki Akira (Nirasaki JPX), Plasma film forming method and apparatus and plasma processing apparatus.
  6. Ishii Nobuo (Yamanashi-ken JPX) Hata Jiro (Yamanashi-ken JPX) Koshimizu Chishio (Yamanashi-ken JPX) Tahara Yoshifumi (Tokyo JPX) Nishikawa Hiroshi (Tokyo JPX) Imahashi Isei (Yamanashi-ken JPX), Plasma processing apparatus.
  7. Hamamoto Kazutoshi (Nagasaki JPX) Uchida Satoshi (Nagasaki JPX) Murata Masayoshi (Nagasaki JPX) Takeuchi Yoshiaki (Nagasaki JPX) Kodama Masaru (Nagasaki JPX), Plasma-chemical vapor-phase epitaxy system comprising a planar antenna.
  8. Nelson Norvell J. (Palo Alto CA), Silicon nitride film and method of deposition.
  9. Chan Chung (8 Pontiac Rd. Newton MA 02168), System for the plasma treatment of large area substrates.

이 특허를 인용한 특허 (13) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Takashi Otsuka JP; Tatsuyuki Aoike JP; Toshiyasu Shirasuna JP; Kazuyoshi Akiyama JP; Hitoshi Murayama JP; Daisuke Tazawa JP; Kazuto Hosoi JP, Apparatus and method for forming deposited film.
  2. Yokogawa, Ken'etsu; Miyake, Masatoshi, Heat treatment apparatus that performs defect repair annealing.
  3. Teranishi, Koji; Yamagami, Atsushi; Takaki, Satoshi, Plasma processing apparatus.
  4. Shirasuna, Toshiyasu; Aoike, Tatsuyuki; Akiyama, Kazuyoshi; Murayama, Hitoshi; Otsuka, Takashi; Tazawa, Daisuke; Hosoi, Kazuto; Abe, Yukihiro, Plasma treatment apparatus.
  5. Shirasuna, Toshiyasu; Aoike, Tatsuyuki; Akiyama, Kazuyoshi; Murayama, Hitoshi; Otsuka, Takashi; Tazawa, Daisuke; Hosoi, Kazuto; Abe, Yukihiro, Plasma treatment method.
  6. Mitrovic, Andrej S.; Johnson, Wayne L., Segmented electrode apparatus for plasma processing.
  7. Okuda, Kazuyuki; Mizuno, Norikazu, Substrate processing apparatus.
  8. Kontani, Tadashi; Toyoda, Kazuyuki; Sato, Taketoshi; Kagaya, Toru; Shima, Nobuhito; Ishimaru, Nobuo; Sakai, Masanori; Okuda, Kazuyuki; Yagi, Yasushi; Watanabe, Seiji; Kunii, Yasuo, Substrate processing apparatus and reaction container.
  9. Kontani, Tadashi; Toyoda, Kazuyuki; Sato, Taketoshi; Kagaya, Toru; Shima, Nobuhito; Ishimaru, Nobuo; Sakai, Masanori; Okuda, Kazuyuki; Yagi, Yasushi; Watanabe, Seiji; Kunii, Yasuo, Substrate processing apparatus and reaction container.
  10. Ishimaru, Nobuo, Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method.
  11. Denvir, Adrian J.; Vela, David F.; Holloway, Matt C., System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone.
  12. Denvir, Adrian J.; Vela, David F.; Holloway, Matthew C.; Boesch, William P.; Evaro, Jose E., System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone.
  13. Denvir, Adrian J.; Vela, David F.; Holloway, Matthew C.; Boesch, William P.; Evaro, Jose E., System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone.

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