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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0149806 (1998-09-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 93 인용 특허 : 20 |
A carrier head for a chemical mechanical polishing apparatus includes a flexible membrane with a lip portion to engage a substrate to form a seal for improved vacuum-chucking.
[ What is claimed is:] [1.] A carrier head for chemical mechanical polishing of a substrate, comprising:a base; anda flexible membrane extending beneath the base to define a pressurizable chamber, a lower surface of the flexible membrane providing a mounting surface for applying a load to a substrat
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