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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0334212 (1999-06-15) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 47 인용 특허 : 7 |
A method for introducing hydrogen into layered nanostructures. The method comprises: a) treating the layered nanostructures with an inert gas at a temperature of at least about 800.degree. C. for an effective amount time; and b) introducing hydrogen into said nanostructures by subjecting the nanostr
[ What is claimed is:] [1.] A method for introducing hydrogen into layered nanostructures, which method comprises:(a) treating said layered nanostructures with a flowing inert gas at a temperature from about 800.degree. C. to about 1200.degree. C. for an effective amount of time to remove substantia
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