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특허 상세정보

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Sealed reactant gas inlet for a CVI/CVD furnace

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C23C-016/00   
미국특허분류(USC) 118/715 ; 118/725
출원번호 US-0178432 (1998-10-28)
발명자 / 주소
  • Rudolph James Warren
출원인 / 주소
  • The B. F. Goodrich Company
대리인 / 주소
    Leffel
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 22
초록
▼

The invention is relates to CVI/CVD furnace apparatus. More specifically, the invention is directed to a sealed gas inlet for a high temperature CVI/CVD furnace. A method and apparatus are provided for preventing gas leakage around a gas inlet extending through a hole in a susceptor floor in a CVI/CVD furnace. According to the invention, the gas inlet is sealed to the susceptor floor with sufficient intimacy to block leakage of gas through the hole around the gas inlet while allowing the gas inlet to cyclically translate through the hole due to thermal e...

대표
청구항

[ What is claimed is:] [4.] In combination, a gas inlet and a susceptor floor for use in a CVI/CVD furnace, said susceptor floor having a hole, said gas inlet comprising an impervious tube extending through said hole and having an outside surface and a bushing encircling at least one end of said impervious tube and mating with at least a portion of said outside surface and received within said hole with sufficient intimacy to block leakage of gas through said hole around said impervious tube during a CVI/CVD process.

인용문헌 (22)

  1. Bessot Jean-Jacques (Arpajon FRX) Bourdon Bernard (Gometz le Chatel FRX), Apparatus for chemically activated deposition in a plasma.
  2. Rudolph James W. (Colorado Springs CO) Purdy Mark J. (Akron OH) Bok Lowell D. (Anna OH), Apparatus for use with CVI/CVD processes.
  3. Burk ; Jr. Albert A. ; Thomas Linard M., Ceiling arrangement for an epitaxial growth reactor.
  4. D\Angelo Charles (Southboro MA) Baldoni ; II Joseph G. (Norfolk MA) Buljan Sergej-Tomislav (Acton MA), Chemical vapor deposition reactor for producing metal carbide or nitride whiskers.
  5. Rudolph James Warren ; Stevens Scott William, Combination CVI/CVD and heat treat susceptor lid.
  6. Simson Morris (Framingham MA) Fabricius John H. (Westford MA) Browne Ronnie (Derry NH) Waugh Arthur (Winchester MA) Sarkozy Robert F. (Westford MA) Lai Chiu K. S. (Wellesley MA), Cross-flow diffusion furnace.
  7. Ellison Alex,SEX ; Kordina Olle,SEX ; Gu Chun-Yuan,SEX ; Hallin Christer,SEX ; Janzen Erik,SEX ; Tuominen Marko,SEX, Device for epitaxially growing objects and method for such a growth.
  8. Penfold Alan S. (Playa del Ray CA) Thornton John A. (Los Angeles CA), Electrode type glow discharge apparatus.
  9. Penfold Alan S. (Playa del Rey CA) Thornton John A. (Los Angeles CA), Electrode type glow discharge apparatus.
  10. Penfold Alan S. (Playa del Rey CA) Thornton John A. (Los Angeles CA), Electrode type glow discharge method and apparatus.
  11. Watanabe Misuzu (Kawasaki JPX), Method for carbon film production.
  12. Stringfellow Gerald B. (Palo Alto CA) Hall ; Jr. Howard T. (Palo Alto CA), Method for vapor epitaxial deposition of III/V materials utilizing organometallic compounds and a halogen or halide in a.
  13. Fujii Atsuhiro (Itami JPX), Method of treating a substrate wherein the flow rates of the treatment gases are equal.
  14. Harris Robert G. (Montreal CAX), Microwave, a closed vessel and methods of determining volatile material content.
  15. Sarkozy Robert F. (Westford MA), Modular V-CVD diffusion furnace.
  16. Poris Jaime (Los Gatos CA), Precision weighing to monitor the thickness and uniformity of deposited or etched thin film.
  17. Rudolph James W. ; Purdy Mark J., Pressure gradient CVI/CVD apparatus process and product.
  18. Rudolph James W. ; Purdy Mark J., Pressure gradient CVI/CVD apparatus, process and product.
  19. Ebata Hitoshi (Mishima JPX), Process control system of semiconductor vapor phase growth apparatus.
  20. Sekiya Isao (Numazu JPX), Rotary barrel type induction vapor-phase growing apparatus.
  21. Dickey Eric R. (Northfield MN) Bjornard Erik J. (Northfield MN), Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems.
  22. Dickey Eric R. ; Bjornard Erik J., Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems.

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Delperier, Bernard; Potin, Jean-François; Soulignac, Sophie, CVI densification installation including a high capacity preheating zone.
  2. Jonnalagadda, Rajanikant; Miller, Brian J., Gas port sealing for CVD/CVI furnace hearth plates.
  3. Jonnalagadda, Rajanikant; Miller, Brian J., Gas port sealing for CVD/CVI furnace hearth plates.
  4. Miller, Brian J.; Arico, Alan A.; Waghray, Akshay; Menzie, Todd M.; Cress, James Jay, Gas preheater for chemical vapor processing furnace.
  5. Cress, James Jay; Miller, Brian J., Gas preheater for chemical vapor processing furnace having circuitous passages.
  6. Tenzek, Anthony M., Method and apparatus for controlling furnace position in response to thermal expansion.
  7. Fiala, Robert; Rudolph, James W.; Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  8. Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S.; Rudolph, James W., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  9. Dave,Nileshkumar T.; Meyers,Jeremy P.; Niezelski,David A., PEM fuel cell stack assembly with isolated internal coolant manifold.

IPC 상위 출원인