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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0384523 (1999-08-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 17 |
The present invention generally provides a workpiece handling device and, more particularly, a vacuum operated chuck for securing a substrate to a substrate handling device. In one embodiment, the invention provides a chuck having three vacuum chuck rings projecting from a chuck base and having no r
[What is claimed is:] [1.]a chuck base having a plurality of chuck support recesses formed therein and a plurality of evacuation ports formed therein in fluid communication with each of the recesses; anda plurality of rigid, non-elastomeric, chuck supports disposedwithin the chuck support recesses,
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