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[미국특허] Method for enhancing anti-reflective coatings used in photolithography of electronic devices 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/476.3
  • H01L-021/31
  • H01L-021/44
  • G03C-005/00
출원번호 US-0405805 (1999-09-24)
발명자 / 주소
  • Taravade Kunal
  • Miller Gayle
  • Shelton Gail
출원인 / 주소
  • LSI Logic Corporation
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 10

초록 ▼

A method of fabricating an integrated circuit using photolithography and an antireflective coating. An antireflective coating is formed on a substrate wherein the antireflective coating is electrically polarizable. A photoresist coating is formed on the antireflective coating on a side opposite from

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.]1. A method of fabricating an integrated circuit comprising the steps of:forming an antireflective coating on a substrate wherein said antireflective coating is electrically polarizable;forming a photoresist coating on said antireflective coating on a side opposite from sa

이 특허에 인용된 특허 (10) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Brunsvold William R. ; Hefferon George J. ; Lyons Christopher F. ; Moreau Wayne M. ; Wood Robert L., Antireflective coating films.
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  2. Petersen John S. (Austin TX) Dean Kim R. (Austin TX) Miller Daniel A. (Round Rock TX), Antireflective coating process.
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  3. Takahashi Hironori (Hamamatsu JPX) Wakamori Kazuhiko (Hamamatsu JPX), Electrooptic probe for measuring voltage of an object having a high permittivity film fixed on an end face of a reflecti.
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  4. Kawamura Eiichi,JPX ; Yao Teruyoshi,JPX ; Naori Nobuhisa,JPX ; Hashimoto Koichi,JPX ; Kobayashi Masaharu,JPX ; Oshima Tadasi,JPX, Manufacture of semiconductor device using a-c anti-reflection coating.
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  5. Berkovic Garry (Rehovot ILX) Krongauz Valeri (Rehovot ILX) Yitzchaik Schlomo (Rehovot ILX) Yitzchaik Shlomo (Holon ILX), Method and system for producing second order nonlinear optical effects using in-plane poled polymer films.
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  6. Jain Ajay ; Lucas Kevin, Method for forming a dielectric tantalum nitride layer as an anti-reflective coating (ARC).
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  7. Flaim Tony (Rte. 3 ; Box 3257 St. James MO 65559) Lamb ; III James (1511 Scenic Dr. Rolla MO 65401) Moeckli Kimberly A. (904 E. First St. Salem MO 65560) Brewer Terry (Rte. 2 ; Box 297 Rolla MO 65401, Method for making polymers with intrinsic light-absorbing properties.
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  8. Brewer Terry (Rolla MO) Lamb ; III James (Rolla MO) Mori J. Michael (Boston MA), Method of manufacturing microelectronic devices having multifunctional photolithographic layers.
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  9. Lur Water (Taipei TWX) Yen Po-Wen (Hsin-Chu City TWX), Process for elimination of standing wave effect of photoresist.
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  10. Ziger David H. (San Antonio TX), Semiconductor lithography methods using an ARC of organic material.
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이 특허를 인용한 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Delfeld, Thomas Peter; Dehuff, Nicole L., Antireflective apparatus with anisotropic capacitive circuit analog sheets.
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  2. Bristol,Robert; Cao,Heidi; Chandhok,Manish; Meagley,Robert; Ramachandrarao,Vijayakumar S., Enhancing photoresist performance using electric fields.
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  3. Sivakumar,Swaminathan, Imageable bottom anti-reflective coating for high resolution lithography.
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  4. Taravade, Kunal; Miller, Gayle; Shelton, Gail, Method for enhancing anti-reflective coatings used in photolithography of electronic devices.
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  5. Delfeld, Thomas Peter; Dehuff, Nicole L., Method of making antireflective apparatus.
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