검색연산자 | 기능 | 검색시 예 |
---|---|---|
() | 우선순위가 가장 높은 연산자 | 예1) (나노 (기계 | machine)) |
공백 | 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 | 예1) (나노 기계) 예2) 나노 장영실 |
| | 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 | 예1) (줄기세포 | 면역) 예2) 줄기세포 | 장영실 |
! | NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 | 예1) (황금 !백금) 예2) !image |
* | 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 | 예) semi* |
"" | 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 | 예) "Transform and Quantization" |
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) | C23C-016/00 |
미국특허분류(USC) | 118/726 ; 392/400 ; 392/402 |
출원번호 | US-0615141 (2000-07-13) |
발명자 / 주소 | |
인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 1 |
Apparatus for producing a wet oxygen stream for a semiconductor furnace to form oxide layers on silicon wafers. A quartz vessel with quartz chips is heated to 450.degree. C. and a mixture of water and oxygen is introduced at the bottom of the vessel. Vaporization occurs at the input of the water and oxygen into the vessel. The output of wet oxygen as superheated stream passes through the chips and is taken from the top of the vessel to the furnace. The quartz vessel is nested in an aluminum body containing heaters to maintain constant temperature. The ra...
[ What is claimed is:] [1.]1. Apparatus for generating a high temperature mixture of gases, the stream being supplied to a furnace for the production of oxide films on semiconductor wafers, said apparatus comprising:a) an open quartz vessel;b) a quartz cover having input and output ports and dimensioned to close the vessel;c) an input tube extending from the input port to a level proximate to the bottom of the vessel;d) means for delivering a mixture of gas and liquid to the input tube;e) an output tube extending from the output port to a region proximat...