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Removable reflector rack for an ultraviolet curing oven 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F27B-009/36
  • F21V-007/10
  • F27D-011/02
출원번호 US-0385804 (1999-08-30)
발명자 / 주소
  • Sanderson Terry M.
출원인 / 주소
  • Lucent Technologies Inc.
대리인 / 주소
    Thomas, Kayden, Horstemeyer & Risley, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 7

초록

A removable rack for supporting a reflector in an oven having a light source where the reflector focuses light emitted from the light source in a predetermined manner. The preferred removable rack is arranged and configured to support a mirror array therein where the entire rack can be removably fix

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. A removable rack for supporting a reflector in an oven having a light source, wherein the reflector focuses light emitted from the light source in a predetermined manner, said removable rack comprising:first and second longitudinal support members in side-by-side spaced

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Gunter John B. ; Ensz Daniel V. ; Plovock Thomas E. ; Matheson Derek S., Apparatus for aligning the object focus in filament irradiating units.
  2. Larsen-Moss Lisa M. (Stone Mountain GA) Pidgeon ; Jr. Vernon W. (Suwanee GA), Apparatus for curing coatings on drawn optical fiber.
  3. Wood Charles H. (Rockville MD), Apparatus for treating coatings.
  4. Fuse Yoshiro (Chofu JPX) Naganuma Takao (Chofu JPX) Fujimori Akiyoshi (Chofu JPX) Arai Kozo (Chuo JPX) Igarashi Katsutoshi (Chuo JPX) Naito Yuzi (Chuo JPX), Curing apparatus.
  5. Mandellos Panagiotis, Irradiator apparatus.
  6. Stevens Philip,GBX ; Keogh Patrick,GBX, Lamp assembly.
  7. Treleven Robert E. (Green Bay WI), Ultraviolet drying apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Giacomello, Ivana, Apparatuses and method for decorating objects.
  2. Schoenberger, Wolfgang; Fischer, Simon; Wutz, Andreas; Hirdina, Jochen; Holzer, Christian, Heating device for the tempering of preforms.
  3. Schoenberger, Wolfgang; Fischer, Simon; Wutz, Andreas; Hirdina, Jochen; Holzer, Christian, Heating device for the tempering of preforms.
  4. Hasenour,Benjamin W.; Arvin,James F., Irradiating apparatus.
  5. DeMichael, Thomas; Moor, James J.; Chin, Herbert A.; Lin, Wangen, Local heat treatment of IBR blade using infrared heating.
  6. Lin, Wangen; Moor, James J.; DeMichael, Thomas; Chin, Herbert A.; Hill, Melissa R.; Labbe, Michael J., Method and apparatus of heat treating an integrally bladed rotor.
  7. Gytri, Lisa; Gordon, Jeff; Lee, James; Balderrama, Carmen; Harris, Joseph Brett, Method and apparatuses for reducing porogen accumulation from a UV-cure chamber.
  8. Gytri, Lisa; Gordon, Jeff; Lee, James; Balderrama, Carmen; Harris, Joseph Brett; Smargiassi, Eugene; Lau, Stephen Yu-Hong; Kamian, George D.; Xi, Ming, Method and apparatuses for reducing porogen accumulation from a UV-cure chamber.
  9. Gytri, Lisa; Gordon, Jeff; Lee, James; Balderrama, Carmen; Harris, Joseph Brett; Smargiassi, Eugene; Lau, Stephen Yu-Hong; Kamian, George D.; Xi, Ming, Method for reducing porogen accumulation from a UV-cure chamber.
  10. Shrinivasan, Krishnan; Rivkin, Michael; Smargiassi, Eugene; Sabri, Mohamed, Multi-station sequential curing of dielectric films.
  11. Shrinivasan, Krishnan; Rivkin, Michael; Smargiassi, Eugene; Sabri, Mohamed, Multi-station sequential curing of dielectric films.
  12. Yoder, Duane; Blake, James; Nevarez, Roberto, Oven with convection air current and energy savings features.
  13. Smargiassi, Eugene; Lau, Stephen Yu-Hong; Kamian, George D.; Xi, Ming, Purging of porogen from UV cure chamber.
  14. Smargiassi, Eugene; Lau, Stephen Yu-Hong; Kamian, George D.; Xi, Ming, Purging of porogen from UV cure chamber.
  15. Smargiassi, Eugene; Lau, Stephen Yu-Hong; Kamian, George D.; Xi, Ming, Purging of porogen from UV cure chamber.
  16. Smargiassi, Eugene; Lau, Stephen Yu-Hong; Kamian, George D.; Xi, Ming, Purging of porogen from UV cure chamber.
  17. Molaro, Donald Joseph, Real-time delivery of license for previously stored encrypted content.
  18. Shrinivasan, Krishnan; Wang, Feng; Kamian, George; Gentile, Steve; Yam, Mark, Single-chamber sequential curing of semiconductor wafers.
  19. Bolt, Bryan, Tunable-illumination reflector optics for UV cure system.
  20. Treichel, Oliver; Ebinger, Klaus; Jung, Joachim; Jung, legal representative, Stefan; Niemann, nee Jung, legal representative, Melanie; Jung, legal representative, Carsten; Fuchs, Günter, UV irradiation unit for substrates.
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