[특허]Inert barrier for high purity epitaxial deposition systems

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Inert barrier for high purity epitaxial deposition systems 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-016/00
출원번호	US-0346646 (1999-07-01)
발명자 / 주소	de Lomenie Romain Beau Carlson David K.
출원인 / 주소	Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소	Blakely Sokoloff Taylor & Zafman
인용정보	피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 4

초록 ▼

The present invention is an improved semiconductor substrate processing apparatus which includes a processing chamber having a first member, a second member and a processing region; a vacuum tight seal between said first and said second members that enables a pressure controlled environment within said processing region; and a barrier between said first and second members which separates said seal from said processing region, said barrier being substantially non-reactive with processes conducted in said processing region.

대표청구항 ▼

[ We claim:] [1.]1. A semiconductor substrate processing apparatus comprising:(a) a processing chamber having a first member, a second member and a processing region;(b) a vacuum tight seal between said first and said second members that enables a pressure controlled environment within said processing region; and(c) a barrier disposed between said first and second members which separates said seal from said processing region, said barrier being substantially non-reactive with processes conducted in said processing region and wherein said barrier has slideably coupled ends.

이 특허에 인용된 특허 (4)

Barna Eileen C. (West Chester PA) Hamilton Elizabeth M. (Elkton MD) Lalli Eric W. (Elkton MD) Lubin Cindy B. (Towson MD) Sparks Wanda F. (Elkton MD) Waterland ; III Alfred F. (Elkton MD), O-ring gasket material and method for making and using same.
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Gore Robert W. (Newark DE), Process for producing porous products.
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Rice Michael ; Askarinam Eric, Protective collar for vacuum seal in a plasma etch reactor.
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Hamilton Elizabeth M. (Elkton MD) Lalli Eric W. (Elkton MD) Lubin Cindy B. (Phoenixville PA) Sparks Wanda F. (Elkton MD) Waterland ; III Alfred F. (Elkton MD), Wrapped composite gasket material.
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이 특허를 인용한 특허 (16)

Sung, Edward; Smith, Colin F.; Hamilton, Shawn M., Anti-transient showerhead.
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Yudovsky, Joseph; Nguyen, Anh N.; Ngo, Tai T., Atomic layer deposition chamber with multi inject.
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Kashyap, Dhritiman S.; Cohen, David G.; Sharma, Davinder, Cascade design showerhead for transient uniformity.
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Krotov, Peter; Smith, Colin F., Deposition sub-chamber with variable flow.
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Aboagye, Steve; Brillhart, Paul; Kumar, Surajit; Chang, Anzhong; Kuppurao, Satheesh; Samir, Mehmet Tugrul; Carlson, David K., EPI base ring.
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Tateishi, Shizuka; Kurozumi, Yusuke; Rikihisa, Yasuhiro, Epitaxial apparatus.
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Kawata, Masahiro, Inline vacuum processing apparatus, method of controlling the same, and information recording medium manufacturing method.
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Sico, Angela Rose; Rice, Michael R.; Strassner, James D., Methods and apparatus for sealing a slit valve door.
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Samir, Mehmet Tugrul; Myo, Nyi Oo, Methods and apparatus for the deposition of materials on a substrate.
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Ivo Raaijmakers, Quartz wafer processing chamber.
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Raaijmakers, Ivo, Quartz wafer processing chamber.
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Wood,Eric R., Reactor chamber.
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Nakagawa, Yusuke, Seal mechanism, seal trench, seal member, and substrate processing apparatus.
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Lubomirsky, Dmitry; Liang, Qiwei, Sealing groove methods for semiconductor equipment.
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Coppola, Stephen; Kamibayashiyama, Julian, Slit valve assembly having a spacer for maintaining a gap.
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Jostlein,Hans, Ultra-high speed vacuum pump system with first stage turbofan and second stage turbomolecular pump.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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