최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0323968 (1999-06-02) |
우선권정보 | JP0219705 (1998-07-17) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 7 |
A cleaning apparatus has a processing tank (21) for containing a processing liquid in which semiconductor wafers (W) are immersed, and a tubular vessel(22a) having a processing chamber (23) containing the processing tank (21). A side wall (26) of the vessel (22a), and a first partition wall (28) hav
[ What is claimed is:] [1.]1. A cleaning apparatus comprising:a cleaning tank; anda cleaning liquid supply circuit for supplying a cleaning liquid to the cleaning tank, including a pump for pumping the cleaning liquid, a temperature regulator for regulating the temperature of the cleaning liquid and
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.