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[미국특허] Clean room and method of remodeling clean room 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01L-001/04
출원번호 US-0559410 (2000-04-26)
우선권정보 JP0186566 (1997-07-11)
발명자 / 주소
  • Matsumoto Yoshihiro,JPX
출원인 / 주소
  • Nippon Steel Semiconductor Corporation, JPX
대리인 / 주소
    Crowell & Moring, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 8

초록 ▼

The present invention is to provide a method of remodeling an existing clean room building into a clean room which satisfies a new required specification. A working room (11) is expanded by removing a wall (29) between the working room (11) and a general passage (30). If a portion of the floor of th

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.]1. A clean room remodeling method for remodeling a clean room comprising an air conditioner and a return chamber located on a first floor, a semiconductor fabrication working room located on a second floor above said first floor and a supply chamber located in a space abov

이 특허에 인용된 특허 (8) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Lee Joung-sun,KRX ; Ruy Jae-jun,KRX ; Lee Kun-hyung,KRX ; Mun Sang-young,KRX, Air current controlling device and clean room adopting the same.
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  2. Shinoda Shousuke (Tateyama JPX) Yamashita Tetsuo (Tateyama JPX) Sugihara Yukio (Tateyama JPX) Matsumoto Yoshihiro (Tateyama JPX), Clean air room for a semiconductor factory.
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  3. Hashimoto Takayoshi (Kanagawa JPX), Clean room system.
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  4. Daw Terry L. (Salt Lake City UT), Cleanroom structure.
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  5. Sullivan F. Ryan (Cleveland Heights OH), Coating of EMI shielding and method therefor.
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  6. Saito Kenichiro (Tokyo JPX) Aoyama Shigeyuki (Tokyo JPX), Multi-purpose, mobile laboratory room.
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  7. Hasegawa Takayuki,JPX ; Fujioka Hidehiko,JPX ; Yoneyama Yoshito,JPX, Processing System and semiconductor device production method using the same including air conditioning control in opera.
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  8. Endo, Mitsushi; Taniguchi, Toshiaki; Sahara, Teruyoshi; Hayakawa, Noriyuki; Yoshitomi, Tatsuo; Takahashi, Kozo; Nagatani, Yoshiteru; Kawai, Hidenao; Kaizyo, Shuichi; Nakagawa, Yoichi; Yamagami, Kazuo, Rearrangeable partial environmental control device.
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이 특허를 인용한 특허 (24) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Nakao, Tatsuo, Article storage system for a clean room.
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  2. Fukushima, Masazumi, Carrying system.
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  3. Nakagawa, Toshiaki, Clean room for semiconductor device.
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  4. VanGilder, James W.; Germagian, Mark H., Cold aisle isolation.
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  5. VanGilder, James W.; Germagian, Mark H., Cold aisle isolation.
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  6. VanGilder, James W.; Germagian, Mark H., Cold aisle isolation.
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  7. R. Stephen Spinazzola ; Dennis L. Peltz, Computer rack heat extraction device.
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  8. R. Stephen Spinazzola ; Dennis L. Peltz, Computer rack heat extraction device.
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  9. Spinazzola, R. Stephen; Peltz, Dennis L., Computer rack heat extraction device.
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  10. Spinazzola, R. Stephen; Peltz, Dennis L., Computer rack heat extraction device.
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  11. Spinazzola, R. Stephen; Peltz, Dennis L., Computer room air flow method and apparatus.
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  12. Spinazzola, R. Stephen; Peltz, Dennis L., Computer room air flow method and apparatus.
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  13. Fink, James R.; Bean, John H.; Held, Stephen F.; Johnson, Richard J.; Johnson, Rollie R., Data center cooling.
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  14. Fink, James R.; Bean, Jr., John H.; Held, Stephen F.; Johnson, Richard J.; Johnson, Rollie R., Data center cooling.
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  15. Fink, James R.; Bean, Jr., John H.; Held, Stephen F.; Johnson, Richard J.; Johnson, Rollie R., Data center cooling.
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  16. Fink,James R.; Bean, Jr.,John H.; Held,Stephen F.; Johnson,Richard J.; Johnson,Rollie R., Data center cooling.
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  17. Fink, James, Data center cooling system.
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  18. Meyer, Gary, Directional flow raised floor air-grate.
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  19. Germagian,Mark; VanGilder,James; Dudek,Jason, Rack height cooling.
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  20. Germagian,Mark; VanGilder,James; Dudek,Jason, Rack height cooling.
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  21. Johnson, Richard J.; Pfleging, Robert C.; Anderson, Timothy J.; Kroupa, Daniel C., Rack-mounted equipment cooling.
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  22. Olander, W. Karl; Sweeney, Joseph D.; Wang, Luping, Semiconductor manufacturing facility utilizing exhaust recirculation.
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  23. Olander,W. Karl; Sweeney,Joseph D.; Wang,Luping, Semiconductor manufacturing facility utilizing exhaust recirculation.
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  24. Olander,W. Karl; Sweeney,Joseph D.; Wang,Luping, Semiconductor manufacturing facility utilizing exhaust recirculation.
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