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Liquid carbon dioxide cleaning using agitation enhancements at low temperature 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-005/02
출원번호 US-0611454 (2000-07-07)
발명자 / 주소
  • Chao Sidney C.
  • Purer Edna M.
  • Sorbo Nelson W.
출원인 / 주소
  • Raytheon Company
대리인 / 주소
    Raufer
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 5

초록

A cleaning system and method utilizing sonic whistle and other agitation methods to enhance the soil removal and mass transport capacity of the liquid carbon dioxide at low process temperatures. Agitation devices disposed in or couple to a cleaning chamber, and cause the liquid carbon dioxide to ult

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. A liquid carbon dioxide cleaning method embodied in a system having a cleaning chamber, said cleaning method comprising the steps of:providing a cleaning chamber;disposing vigorous agitation apparatus within the cleaning chamber; introducing liquid carbon dioxide from a

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Bishop Phillip W. ; Harrover Alexander J., Carbon dioxide cleaning process.
  2. Williams Roger F. (Louisville KY), Cryogenic cleaning process.
  3. Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA) Stanford Thomas B. (San Pedro CA) Purer Edna M. (Los Angeles CA) Wilkerson Angela Y. (Inglewood CA), Dry-cleaning of garments using liquid carbon dioxide under agitation as cleaning medium.
  4. Chao Sidney C. ; Purer Edna M. ; Sorbo Nelson W., Liquid carbon dioxide cleaning using jet edge sonic whistles at low temperature.
  5. Chao Sidney C. ; Beach Robert W. ; Sorbo Nelson W. ; Purer Edna M., Process for cleaning, disinfecting, and sterilizing materials using the combination of dense phase gas and ultraviolet radiation.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Yokomizo,Kenji, Apparatus and method of securing a workpiece during high-pressure processing.
  2. Jones,William Dale, Control of fluid flow in the processing of an object with a fluid.
  3. DeYoung, James P.; Romack, Timothy J.; McClain, James B., Detergent injection methods for carbon dioxide cleaning apparatus.
  4. Sheydayi,Alexei; Sutton,Thomas, Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels.
  5. Jones, William D., High pressure fourier transform infrared cell.
  6. Biberger,Maximilian A.; Layman,Frederick Paul; Sutton,Thomas Robert, High pressure processing chamber for semiconductor substrate.
  7. Jones,William Dale, High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer.
  8. Jones,William Dale, High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer.
  9. Goshi,Gentaro, Method and apparatus for cooling motor bearings of a high pressure pump.
  10. Biberger,Maximilian Albert; Layman,Frederick Paul; Sutton,Thomas Robert, Method of supercritical processing of a workpiece.
  11. Wuester,Christopher D., Process flow thermocouple.
  12. Jacobson,Gunilla; Yellowaga,Deborah, Treatment of a dielectric layer using supercritical CO.
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