[특허]Pod and method of cleaning it

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B08B-003/02
출원번호	US-0265539 (1999-03-09)
우선권정보	JP0074632 (1998-03-23)
발명자 / 주소	Yoshikawa Noriaki,JPX Yotsumoto Tadashi,JPX Muguruma Terumi,JPX Hasegawa Yoshitaka,JPX Kuroda Yuichi,JPX
출원인 / 주소	Kabushiki Kaisha Toshiba, JPX
대리인 / 주소	Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner, L.L.P.
인용정보	피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 15

초록 ▼

A pod for storing and carrying substrates consists of a pod body and a cover. An inlet and an outlet are formed on one of the pod body and cover. The cover is tightly fitted to the pod body to close the inside of the pod body. A washing liquid is introduced into the pod through the inlet and is discharged from the pod through the outlet, thereby easily washing the inside of the pod with the pod itself serving as a washing tank. A washing cover has an inlet, an outlet, and a heater. The washing cover is attached to the pod body when washing the inside of the pod body. Further provided is a cleaning apparatus having pipes and a pump that are connected to the washing cover. The cleaning apparatus may have a table serving as the washing cover. The table is connected to pipes and a pump.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [6.]6. An apparatus for processing substrates stored in a pod including a pod body having an opening for taking in and out the substrate and a cover for closing the opening of the pod body, comprising:a pod reception chamber;a pod processing chamber;a substrate processing chamber;means for transferring the pod and substrates between the chambers;substrate taking means in the pod reception chamber, for taking the substrates out of the pod;cleaning means in the pod processing chamber, for cleaning the inside of the pod; andsubstrate processing means in the substrate processing chamber, for processing the substrate, whereinthe cleaning means has:a table on which the pod body is set to tightly close the inside of the pod body;an inlet and an outlet formed on the table, the inlet introducing fluid into the pod body, the outlet discharging fluid from the pod body;introducing means for introducing a washing liquid into the pod body through inlet; anddischarging means for discharging the washing liquid from the pod body through the outlet.

이 특허에 인용된 특허 (15) 인용/피인용 타임라인 분석

Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise , Article storage house in a clean room.
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Doran Daniel B., Automated washing method.
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Doran Daniel B., Automated washing system and method.
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Kitahara Shigenori (Kumamoto JPX) Terada Takashi (Kurume JPX), Cleaning apparatus.
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Turner Virgil O. ; Light William D. ; Trevino Hilario T., Cleansing process for wafer handling implements.
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Phenix Robert B. (Milton VT) Tandy Winfield T. (Essex Junction VT), Device for decontaminating a semiconductor wafer container.
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Yamashita Teppei,JPX ; Murata Masanao,JPX ; Tanaka Tsuyoshi,JPX ; Morita Teruya,JPX ; Kawano Hitoshi,JPX ; Hayashi Mitsuhiro,JPX ; Okuno Atsushi,JPX ; Nakamura Akio,JPX, Electronic substrate processing system using portable closed containers.
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Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise JPX) Kawano Hitoshi (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Nakamura Akio (Ise J, Electronic substrate processing system using portable closed containers and its equipments.
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Guldi Richard L. ; Brooks Jimmie, Method for processing wafers and cleaning wafer-handling implements.
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Ohmori Masashi (Itami JPX) Tanaka Hiroshi (Itami JPX) Nishimoto Akira (Itami JPX) Sasai Hiroshi (Itami JPX) Fujino Naohiko (Amagasaki JPX) Kotoh Satoru (Amagasaki JPX), Semiconductor cleaning apparatus and wafer cassette.
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Yamada Yoshiaki (Itami JPX) Iwasaki Junji (Itami JPX) Ohmori Masashi (Itami JPX), Semiconductor device processing method.
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Ohashi Yasuhiko (Shiga JPX), Substrate surface treating apparatus and substrate surface treating method.
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Jung Jae-hyung,KRX ; Yun Young-hwan,KRX ; Chang Ho-seung,KRX, Wafer cassette and cleaning system adopting the same.
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Bowers Charles W., Wafer cassette cleaning using carbon dioxide jet spray.
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Kamikawa Yuuji (Uto JPX) Kuroda Kouki (Kurume JPX) Honda Yoshiyuki (Kumamoto JPX) Mukai Eiichi (Kurume JPX) Nishi Mitsuo (Kurume JPX), Washing system.
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Ham,Erik Leonardus; Lansbergen,Robert Gabri？l Maria; Meijer,Ellart Alexander; Meijer,Hendricus Johannes Maria; Meiling,Hans; Mertens,Bastiaan Matthias; Moors,Johannes Hubertus Josephina; Heerens,Ger, Lithographic apparatus and patterning device transport.
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Lai, Wei-Yu; Chen, Hung-Wen, Mechanisms for charging gas into cassette pod.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
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A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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