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Production of low oxygen metal wire 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01R-043/00
출원번호 US-0623629 (1996-03-28)
발명자 / 주소
  • Balliett Robert W.
출원인 / 주소
  • H.C. Starck, Inc.
대리인 / 주소
    Perkins, Smith & CohenCohen
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 6

초록

Production of low oxygen forms of tantalum and other refractory metals providing hydrided powder of the metal, forming a tube (10), pouring the metal into the tube, dehydriding the powder in the tube and sealing the tube and extruding to form a rod encased in the tube and further fabricating the rod

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. Method of producing tantalum wires in physical and chemical forms suitable for usage as lead wires of tantalum anodes of electrolytic capacitors, the method comprising the steps of:(a) providing tantalum hydride of loose powder form in a range from plus 44 mesh to minus

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Nadkarni Anil V. (Mentor OH) Samal Prasanna K. (Lyndhurst OH), Metal modified dispersion strengthened copper.
  2. Yamamoto Susumu (Hyogo JPX) Murai Teruyuki (Hyogo JPX) Kawabe Nozomu (Hyogo JPX) Tobioka Masaaki (Hyogo JPX), Method for producing an elongated sintered article.
  3. Yolton Charles F. (Coraopolis PA) Froes Francis H. (Pittsburgh PA), Method for producing powder metallurgy articles.
  4. Friedman Ira (10 Bingham Hill Cir. Rumson NJ 07760) Aslund Christer (Bravallavagen 11 644 36 Torshalla SEX), Method of extruding refractory metals and alloys and an extruded product made thereby.
  5. Mukai Hidehito (Osaka JPX) Sato Kenichi (Osaka JPX) Shibuta Nobuhiro (Osaka JPX), Method of preparing oxide superconducting wire.
  6. Hakko James B. (Waukegan IL), Tantalum metal powder.

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Nakamura,Shinji, Capacitor element for solid electrolytic capacitor and method of making the same.
  2. Malen,Richard; Kumar,Prabhat, Capacitor-grade lead wires with increased tensile strength and hardness.
  3. Miller, Steven A.; Gaydos, Mark; Shekhter, Leonid N.; Gulsoy, Gokce, Dynamic dehydriding of refractory metal powders.
  4. Miller, Steven A.; Kumar, Prabhat; Wu, Richard; Sun, Shuwei; Zimmermann, Stefan; Schmidt-Park, Olaf, Fine grained, non banded, refractory metal sputtering targets with a uniformly random crystallographic orientation, method for making such film, and thin film based devices and products made therefrom.
  5. Dary, Francois-Charles; Gaydos, Mark; Loewenthal, William; Miller, Steven A.; Rozak, Gary; Volchko, Scott Jeffrey; Zimmermann, Stefan; Stawovy, Michael Thomas, Large-area sputtering targets.
  6. Miller, Steven A.; Shekhter, Leonid N.; Zimmermann, Stefan, Methods of joining metallic protective layers.
  7. Loewenthal, William; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets.
  8. Volchko, Scott Jeffrey; Loewenthal, William; Zimmermann, Stefan; Gaydos, Mark; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets using interlocking joints.
  9. Volchko, Scott Jeffrey; Loewenthal, William; Zimmermann, Stefan; Gaydos, Mark; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets using interlocking joints.
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