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[미국특허] Mass flow measuring assembly having low pressure drop and fast response time 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01F-001/68
  • G01F-001/44
  • F16K-031/42
출원번호 US-0241883 (1999-02-01)
발명자 / 주소
  • Drexel Charles F.
  • Saghatchi Hamid
출원인 / 주소
  • DXL USA Inc.
대리인 / 주소
    Gray
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 18

초록

An assembly for measuring the mass flow and flow rate of gases such as are used in semiconductor fabrication processes. The assembly includes an axial flow passage, viz., a capillary tube with a bore of about 0.050 inch diameter and a wall thickness of about 0.002 inch, having a downstream end conne

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. A mass flow measuring assembly for performing a multiplicity of measurements of mass flow of a gas entering the assembly at a flow rate less than a predetermined maximum flow rate from a gas storage container at a pressure less than one atmosphere and exiting the assemb

이 특허에 인용된 특허 (18) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Licinit Edward J. (Montgomery County PA) Sullivan Paul G. (Montgomery County PA), Concentric rod and tube sensor for thermal mass flow controller and flow meter.
  2. Hinkle Luke D. (Townsend MA) Provost James (Derry NH), Differential current thermal mass flow transducer.
  3. Wilmer Michael E., Dynamic gas flow controller.
  4. Harpster Joseph W. C. (11450 Overbrook La. Galena OH 43021), Flow metering of high temperature gases.
  5. Benson Richard A. (Bedford MA) King Steven M. (North Grafton MA), Fluid control and shut off valve.
  6. Shimizu Tetsuo (Kyoto JPX) Tujimura Kiyoharu (Kyoto JPX) Iwamoto Michinori (Kyoto JPX), Fluid control device.
  7. Ohmi Tadahiro (2-1-17 ; Komegafukuro Sendai-City Miyagi-Prefecture ; 980 JPX) Mihira Hiroshi (74-11 ; Takaba-cho Mukaijima ; Fushimi-ku ; Kyoto ; 612 JPX) Satoh Kiyoshi (22-1 ; Terado-cho Mukoh-City , Mass flow controller.
  8. Gates William E. (Sommerset NJ) Pieters Wim J. M. (Morristown NJ), Mass flow controller apparatus.
  9. Blair Richard F. (Palos Verdes Peninsula CA), Mass flow meter with reduced attitude sensitivity.
  10. Isoda Yoritaka (Amagasaki JPX), Mass flowmeter.
  11. Olin John G. (Carmel Valley CA) Korpi David M. (Monterey CA), Mass flowmeter.
  12. Bump Scott S. ; Campbell Gary P. ; Dille Joseph C. ; White William W., Method and apparatus for detecting and controlling mass flow.
  13. Pieters Wim J.M. (Morristown NJ) Gates William E. (Somerset NJ), Method and apparatus for determining the amount of gas adsorbed or desorbed from a solid.
  14. Drexel Charles F. (Rolling Hills CA) Mudd Daniel T. (Long Beach CA), Method for in-line calibration verification of mass flow meters.
  15. Izumi Shigekazu,JPX ; Uneme Yutaka,JPX, Method of growing n-type III-V semiconductor materials on a substrate using SiI.sub.4.
  16. Satoh Kiyoshi (Kyoto JPX), Thermal mass flow meter.
  17. Wiegleb Gerhard (Maintal DEX) Heimel Helmut (Ronneburg DEX) Rss Rudi (Bruchkbel DEX), Thermal mass flow-meter particularly for gases.
  18. Thurston John F. (Mesa AZ) Booth Stuart L. (Tempe AZ), Volumetric fluid flowmeter and method.

이 특허를 인용한 특허 (13) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Mohammed, Balarabe Nuhu; Barros, Philip; Martin, Raul A.; Crockett, Mark A.; Sklar, Eric S., Combination manual/pneumatic shut-off valve.
  2. Mudd, Daniel T.; Mudd, Patti J., Flow control system, method, and apparatus.
  3. Takijiri, Kotaro; Tanaka, Yuki; Ieki, Atsushi, Flow rate control apparatus, storage medium storing program for flow rate control apparatus and flow rate control method.
  4. Lotters, Joost Conrad; Boer, Hendrik Jan; Jouwsma, Wybren, Mass flowmeter.
  5. Gold, Ezra Robert; Fovell, Richard Charles; Cruse, James Patrick; Lee, Jared Ahmad; Geoffrion, Bruno; Buchberger, Douglas Arthur; Salinas, Martin J., Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber.
  6. Gold, Ezra Robert; Fovell, Richard Charles; Cruse, James Patrick; Lee, Jared Ahmad; Geoffrion, Bruno; Buchberger, Douglas Arthur; Salinas, Martin J., Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber.
  7. Gold, Ezra Robert; Fovell, Richard Charles; Cruse, James Patrick; Lee, Jared Ahmad; Geoffrion, Bruno; Buchberger, Douglas Arthur; Salinas, Martin J., Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber.
  8. Melcer,Chris; Lane,John, Method and apparatus for pressure and mix ratio control.
  9. Lane,John; Straube,Ralph H. M.; Melcer,Chris, Method and apparatus for pressure control and flow measurement.
  10. Balarabe, Mohammed Nuhu; Barros, Philip; Martin, Raul A.; Crockett, Mark A.; Sklar, Eric S., Pressure-insensitive mass flow controller.
  11. Shimizu, Satoru; Kawamoto, Kenta; Iwai, Yoshiaki, Robot device, method of controlling the same, computer program, and robot system.
  12. Shimizu, Satoru; Kawamoto, Kenta; Iwai, Yoshiaki, Robot device, method of controlling the same, computer program, and robot system.
  13. Zolock, Michael J.; Smirnov, Alexei V., Temperature insensitive mass flow controller.

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