[특허]Photomask with a mask edge provided with a ring-shaped ESD protection area

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[미국특허] Photomask with a mask edge provided with a ring-shaped ESD protection area 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-009/00
출원번호	US-0460931 (1999-12-14)
우선권정보	EP0204223 (1998-12-14)
발명자 / 주소	Reijers Antonius A. M.,NLX
출원인 / 주소	.S. Philips Corporation
대리인 / 주소	Biren
인용정보	피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 2

초록 ▼

A photomask (1) comprises a transmissive base plate (2) a first side of which is provided with a layer of a metallic mask material (4). In this layer, a mask pattern (5) is formed which is enclosed by an inner region (6) and an outer region (7) of mask material, the inner region and the outer region being separated by a ring-shaped protection area (8). In this protection area, a protection pattern (9) is formed having tracks (10) with end portions (11) situated near the inner and outer regions and at a distance (12) therefrom, which distance is small compared to the smallest distance between pattern parts in the mask pattern (5). The photomask is thus protected against electrostatic discharges, which could damage the mask pattern.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.]1. A photomask comprising a base plate of a radiation-transmitting and electrically insulating material, a first side of which is provided with a layer of an electroconductive mask material wherein a mask pattern to be imaged is formed which is enclosed by an inner edge and an outer edge of a mask material, which edges are electrically separated from each other by a ring-shaped protection area, characterized in that the ring-shaped protection area comprises a protection pattern formed in the layer of mask material, which protection pattern has tracks having an end situated near the inner edge or outer edge and at a distance from said inner edge or outer edge which is smaller than the smallest distance between pattern parts present in the mask pattern.

이 특허에 인용된 특허 (2)

Obrecht Werner (Wielenbach DEX) Haghiri-Tehrani Yahya (Munich DEX) Hoppe Joachim (Munich DEX), Carrier element for an IC module.
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Chen Shih-Shiung,TWX ; Chen Ming-Fa,TWX ; Lan Ho-Ku,TWX ; Chao Ying-Chen,TWX, Photomask arrangement protecting reticle patterns from electrostatic discharge damage (ESD).
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이 특허를 인용한 특허 (14)

Lin, Jung-Sung; Lee, Hsua-Yun; Chi, Pin-Hao; Lin, Chih-Yuan; Lin, Ming-Chuan, Connection structure of electronic device.
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Alpay, H. Ufuk; Gordon, Joseph S.; Hughes, Gregory P.; Kalk, Franklin D., Damage resistant photomask construction.
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Bluck, Terry; Latchford, Ian; Shah, Vinay; Riposan, Alex, Dual-mask arrangement for solar cell fabrication.
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Wu, Tien-Chi; Chen, Kou-Chou; Hsu, Huai-Jen; Huang, George, Guard ring having electrically isolated lightening bars.
상세보기
Adibi, Babak; Prabhakar, Vinay; Bluck, Terry, Implant masking and alignment system with rollers.
상세보기
Kuo, Kuei Chi, Method and structure for electrostatic discharge protection of photomasks.
상세보기
Kuo,Kuei Chi, Method and structure for electrostatic discharge protection of photomasks.
상세보기
Hsu, Che Ta; McElheny, Peter J.; Watt, Jeffrey T., Photolithographic reticles with electrostatic discharge protection structures.
상세보기
Ishiwata, Naoyuki, Photomask and method for manufacturing a semiconductor device using the photomask.
상세보기
Rider, Gavin Charles, Reticle containing structures for sensing electric field exposure and a method for its use.
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Hsueh, Shih-Cheng; Look, Kevin T.; Ho, Jonathan Jung-Ching, Reticle cover for preventing ESD damage.
상세보기
Nishimura, Kenichi, Semiconductor device.
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Bluck, Terry; Shah, Vinay; Latchford, Ian; Riposan, Alexandru, System and method for bi-facial processing of substrates.
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Bluck, Terry; Shah, Vinay; Riposan, Alex, System architecture for vacuum processing.
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A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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