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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0351908 (1994-12-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 5 |
A highly selective process is disclosed for the hydrogenolysis of 2,2-dichlorohexafluoropropane (i.e., CFC-216aa or CF.sub.3 CCl.sub.2 CF.sub.3) to 2,2-dihydrohexafluoropropane (i.e., HFC-236fa or CF.sub.3 CH.sub.2 CF.sub.3) and 2-chloro-2-hydrohexafluoropropane (i.e., 226da or CF.sub.3 CHClCF.sub.3
[ What is claimed is:] [1.]1. A process for the hydrogenolysis of 2,2-dichlorohexafluoropropane to 2,2-dihydrohexafluoropropane and 2-chloro-2-hydrohexafluoropropane which comprisesreacting said starting material with at least 0.5 moles of hydrogen per mole of CF.sub.3 CCl.sub.2 CF.sub.3 at a temper
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