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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0424980 (1999-12-02) |
국제출원번호 | PCT/US98/11564 (1998-06-02) |
§371/§102 date | 19991202 (19991202) |
국제공개번호 | WO-9855206 (1998-12-10) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 5 |
A method of separating and selectively removing hydrogen contaminant from hydrogen-containing product and by-product process streams is disclosed. Separation and removal occur when certain Cd containing zeolite, silica, alumina, carbon or clay compositions are placed in contact with a hydrogen-conta
[ What is claimed is:] [1.]1. A method of separating and removing hydrogen from a hydrogen-containing process stream comprising the steps of:a) contacting a hydrogen-containing process stream with a Cd containing zeolite, silica, alumina, carbon or clay composition, with the proviso that said zeolit
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