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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0292726 (1999-04-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 124 인용 특허 : 7 |
Temperature control of a process chamber 25 is achieved by directing a flow of gas at an external surface 100 of the chamber 25. In one aspect, gas directed at the chamber 25 passes through a gas flow amplifier 115 that increases the gas flow. Gas for the temperature control can be drawn in from the
[ What is claimed is:] [1.]1. A temperature control system for controlling a temperature of a surface of an enclosure wall of a process chamber adapted to process a substrate, the temperature control system comprising a gas flow amplifier having a nozzle adapted to emit a gas flow stream that is dir
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