$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[미국특허] Method and apparatus for removing a liquid from a surface 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08D-003/02
  • B08D-003/10
출원번호 US-0331021 (1999-06-15)
국제출원번호 PCT/BE98/00140 (1998-09-24)
§371/§102 date 19990615 (19990615)
국제공개번호 WO99/16109 (1999-04-01)
발명자 / 주소
  • Paul Mertens BE
  • Marc Meuris BE
  • Marc Heyns BE
출원인 / 주소
  • Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC) BE
대리인 / 주소
    McDonnell Boehnen Hulbert & Berghoff
인용정보 피인용 횟수 : 32  인용 특허 : 7

초록 ▼

A method and an apparatus for removing a liquid, i.e. a wet processing liquid, from at least one surface of at least one substrate is disclosed. A liquid is supplied on a surface of substrate. Simultaneously or thereafter the liquid or the substrate is locally heated to thereby reduce the surface te

대표청구항 ▼

1. A method of removing a liquid from at least one surface of at least one substrate comprising the steps of:subjecting said substrate to a rotary movement supplying a liquid on at least a part of said surface of said substrate; and locally heating said liquid on said part of said surface, while sup

이 특허에 인용된 특허 (7) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Kuriyama Kazumi (Yamanashi JPX), Fluid supplying and processing device.
    상세보기
  2. Buker Edward D. ; Conrad Edward W. ; Leas James M., Metal removal cleaning process and apparatus.
    상세보기
  3. Kawasaki Shinji,JPX, Method for cleaning a semiconductor wafer.
    상세보기
  4. Leenaars Adriaan F. M. (Eindhoven NLX) Huethorst Johanna A. M. (Eindhoven NLX) Marra Johannes (Eindhoven NLX), Method for removing in a centrifuge a liquid from a surface of a substrate.
    상세보기
  5. Kunze-Concewitz Horst,DEX, Method of cleaning surfaces with water and steam.
    상세보기
  6. Thompson Raymon F. ; Owczarz Aleksander, Methods for centrifugally cleaning wafer carriers.
    상세보기
  7. Hamada Satomi,JPX ; Maekawa Toshiro,JPX, Washing method and washing apparatus.
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (32) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Welsh,Christopher M.; Matsumoto,Jack T., Apparatus and method for substrate preparation implementing a surface tension reducing process.
    상세보기
  2. Huang, Chia-Hung; Hwang, Jeng-Jyi; Yang, Chi-Ming, Apparatus and method of cleaning wafers.
    상세보기
  3. Park,Im soo; Lee,Kun tack; Han,Yong pil; Hah,Sang rok, Apparatus for cleaning semiconductor wafer including heating using a light source and method for cleaning wafer using the same.
    상세보기
  4. Langen, Kurt, Device and process for liquid treatment of wafer-shaped articles.
    상세보기
  5. Ravkin, Michael; Mikhaylichenko, Katrina; deLarios, John M., Drying a substrate using a combination of substrate processing technologies.
    상세보기
  6. Aoki, Yoshiaki; Kuge, Morimasa; Tsujita, Keiji; Tanaka, Hideyuki; Nomura, Mitsuru, High-pressure washing liquid ejecting washing apparatus.
    상세보기
  7. Lauerhaas, Jeffrey M.; Nicolosi, Jr., Thomas J.; Mertens, Paul; Fyen, William, Megasonic cleaner and dryer.
    상세보기
  8. Lauerhaas,Jeffrey M.; Nicolosi, Jr.,Thomas J.; Mertens,Paul; Fyen,William, Megasonic cleaner and dryer.
    상세보기
  9. Hosack, Chad M.; Lauerhaas, Jeffrey M.; Bran, Mario E.; Standt, Raoul; Patel, Paul; Wu, Yi; Doumen, Geert; Mertens, Paul, Megasonic cleaner and dryer system.
    상세보기
  10. Quarantello, Justin M., Method and apparatus for cleaning and drying a workpiece.
    상세보기
  11. Mertens, Paul; Meuris, Marc; Heyns, Marc, Method and apparatus for localized liquid treatment of the surface of a substrate.
    상세보기
  12. Paul Mertens BE; Mark Meuris BE; Marc Heyns BE, Method and apparatus for removing a liquid from a surface of a rotating substrate.
    상세보기
  13. Holsteyns, Frank; Heyns, Marc; Mertens, Paul W., Method and apparatus for removing a liquid from a surface of a substrate.
    상세보기
  14. Verhaverbeke, Steven; Truman, J. Kelly; Ko, Alexander; Endo, Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
    상세보기
  15. Verhaverbeke, Steven; Truman, J. Kelly; Ko, Alexander; Endo, Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
    상세보기
  16. Verhaverbeke,Steven; Truman,J. Kelly; Ko,Alexander; Endo,Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
    상세보기
  17. Verhaverbeke,Steven; Truman,J. Kelly; Ko,Alexander; Endo,Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
    상세보기
  18. Hertz, Allen David; Hertz, Eric L.; Epp, Dennis D., Method for acoustic and vibrational energy for assisted drying of solder stencils and electronic modules.
    상세보기
  19. Fyen, Wim; Mertens, Paul W., Method for coating substrates.
    상세보기
  20. Stein, Nathan D.; Achkire, Younes; Franklin, Timothy J.; Svirchevski, Julia; Marohl, Dan A., Single wafer apparatus for drying semiconductor substrates using an inert gas air-knife.
    상세보기
  21. Kuntz, Jon; Peace, Steven; Derks, Ed; Aegerter, Brian, Sonic immersion process system and methods.
    상세보기
  22. Hosack, Chad M.; Patel, Paul; Standt, Raoul, Stackable process chambers.
    상세보기
  23. Yoshihara, Kousuke; Yoshida, Yuichi; Yamamoto, Taro, Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus.
    상세보기
  24. Miyagi, Tadashi; Harumoto, Masahiko; Suyama, Sadayasu, Substrate cleaning method and substrate cleaning device.
    상세보기
  25. Ohno, Hiroki; Sekiguchi, Kenji, Substrate cleaning method, substrate cleaning equipment, computer program, and program recording medium.
    상세보기
  26. Goodman, Daniel; Keigler, Arthur; Guarnaccia, David G., Substrate holder.
    상세보기
  27. Goodman, Daniel; Keigler, Arthur; Fisher, Freeman, Substrate loader and unloader.
    상세보기
  28. Sugimoto, Hiroaki; Okuda, Seiichiro; Kuroda, Takuya, Substrate processing apparatus.
    상세보기
  29. Toshima, Takayuki; Orii, Takehiko, Substrate processing method and substrate processing apparatus.
    상세보기
  30. Minami, Teruomi; Okamura, Naoyuki; Kawabuchi, Yosuke, Substrate processing method, storage medium storing computer program for performing substrate processing method, and substrate processing apparatus.
    상세보기
  31. Minami, Teruomi; Okamura, Naoyuki; Maruyama, Hirotaka; Kawabuchi, Yosuke, Substrate processing method, storage medium storing computer program for performing substrate processing method, and substrate processing apparatus.
    상세보기
  32. Sugimoto,Hiroaki, Substrate treating apparatus with circulating and heating mechanism for removal liquid.
    상세보기

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 특허

해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로