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Solution feeding apparatus and method of feeding solution 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-019/00
출원번호 US-0459818 (1999-12-13)
우선권정보 JP-0197163 (1999-07-12); JP-0233716 (1999-08-20)
발명자 / 주소
  • Hisao Kamo JP
출원인 / 주소
  • Chugai Photo Chemical Co., Ltd JP
대리인 / 주소
    Hahn Loeser + Parks LLP
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 9

초록

The invention is directed to an apparatus and method for feeding solution from a container with high accuracy. An embodiment of the apparatus is provided as a container hermetically containing a solution is made of a high polymer that permits the container to change its shape in accordance with the

대표청구항

1. A solution feeding apparatus characterized in that:a container hermetically containing a solution is made of a polymer that permits the container to change its shape in accordance with the amount of its content; said container is removably connected to a tube for forming an isolated conduit exten

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Sakamoto Kazuo,JPX ; Fujimoto Akihiro,JPX ; Ishizaka Nobukazu,JPX ; Hasegawa Izumi,JPX, Apparatus and method for supplying a process solution.
  2. Buzza Edmund (Fullerton CA) Ricchio Samuel (Fullerton CA), Liquid degassing system and method.
  3. Wang Wen-Shyan,TWX ; Lu Shih-Hung,TWX, Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line.
  4. Hung Cheng-chieh,TWX ; Wen Ming-chien,TWX ; Chuang Mao-sheng,TWX, Method and apparatus for eliminating trapped air from a liquid flow.
  5. Huang Cheng H.,TWX ; Wang Ray C.,TWX ; Liu Teh Y.,TWX ; Chao Cheng H.,TWX, Method and apparatus for recovering process liquid and eliminating trapped air.
  6. Yamauchi Shingo (Kanagawa JPX) Takagi Yoshikatsu (Kanagawa JPX), Method of removing air bubbles in a coating path before feeding a coating liquid.
  7. Do Dac-Vong (Langen DEX), Process and apparatus for degassing and filtering liquids.
  8. Florian Gerhard (Holzkirchen DEX), Process and device for removing gas bubbles from a viscous liquid to be dispensed.
  9. Yoo Seung-Seok,KRX, Viscous fluid discharging apparatus for manufacturing semiconductors having a removable bubble capturing portion.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Tzung-Chi Fu TW; Albert An-Ho Yin TW, Apparatus and method for degassing and preventing gelation in a viscous liquid.
  2. Lee, Jung-Min; Lee, Choong-Ho, Apparatus for dispensing resin fluid.
  3. Lee, Young-Hun; You, Jae-Hyun, Bubble damper of slurry supply apparatus.
  4. Udagawa, Seiichiro, Chemical liquid apparatus and deaerating method.
  5. Yajima, Takeo, Chemical liquid supply apparatus and a chemical liquid supply method.
  6. Bork,Joseph E.; Paspek, Jr.,Stephen C.; Schroeder,Alan, Hydrogravity system and process.
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