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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0620247 (2000-07-20) |
우선권정보 | JP-0341802 (1991-12-02); JP-0180538 (1992-06-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 14 |
A method and apparatus for preventing contamination of a substrate or a substrate surface, and particularly relates to prevention of contamination of raw materials, semi-finished products, base materials of products and substrate surface in a high-tech industry such as in the production of semicondu
1. A method for preventing contamination of a substrate or substrate surface, said method comprising the following in sequence:passing a gas containing non-methane hydrocarbons through an adsorber and/or absorber for decreasing concentrations of non-methane hydrocarbons therein; passing the gas thro
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