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[미국특허] Cleaning with liquified gas and megasonics 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/10
  • B08B-003/12
출원번호 US-0133889 (1998-08-13)
발명자 / 주소
  • Ben Kim
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation
대리인 / 주소
    DeLio & Peterson, LLC
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 16

초록 ▼

An apparatus and method are provided for cleaning (removing) contaminating particles and/or films from substrate surfaces such as semiconductor wafers during the fabrication process for making electronic components. The method and apparatus use a liquified gas contained in a distributor which has be

대표청구항 ▼

1. A method for removing contaminating particles from a contaminating particle containing substrate surface comprising the steps of:providing a liquefied gas in a distributor having an outlet nozzle; imparting megasonic energy to the liquefied gas in the distributor thereby energizing the liquefied

이 특허에 인용된 특허 (16) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Yoshitani Mitsuaki,JPX ; Kinose Kazuo,JPX ; Tanaka Satoru,JPX ; Morinishi Kenya,JPX ; Miyagi Masahiro,JPX ; Itami Naoshige,JPX ; Watanabe Kazuhiro,JPX, Apparatus for and method of cleaning substrate.
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  2. Williford ; Jr. John F. (7155 N.E. 126th St. Kirkland WA 98034), Apparatus for removing particulate matter.
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  3. Shiba Kazuhiko,JPX, Cleaning apparatus.
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  4. Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA) Purer Edna M. (Los Angeles CA) Stanford Thomas B. (San Pedro CA) Townsend Carl W. (Los Angeles CA), Cleaning by cavitation in liquefied gas.
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  5. Bowers Charles W., Electrostatic discharge protection of static sensitive devices cleaned with carbon dioxide spray.
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  6. Bowers Charles W., Integrated circuit chip module cleaning using a carbon dioxide jet spray.
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  7. Hall William B. (Dallas PA), Megasonic jet cleaner apparatus.
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  8. Jon Min-Chung (Princeton Junction NJ) Nicholl Hugh (Berthoud CO) Read Peter Hartpence (Morrisville PA), Method and apparatus for CO2 cleaning with mitigated ESD.
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  9. Paranjpe Ajit P. (Plano TX), Method for cleaning semiconductor wafers using liquified gases.
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  10. Kunze-Concewitz Horst,DEX, Method of cleaning surfaces with water and steam.
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  11. Goenka Lakhi Nandlal, Method of mitigating electrostatic charge during cleaning of electronic circuit boards.
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  12. Stanford ; Jr. Thomas B. (San Pedro CA) Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA), Method using megasonic energy in liquefied gases.
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  13. Jackson David P. (22328 W. Barcotta Dr. Santa Clarita CA 91350) Lepp Michael A. (22334 W. Barcotta Dr. Santa Clarita CA 91350), Processes for cleaning, sterilizing, and implanting materials using high energy dense fluids.
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  14. Menon Venugopal B. (Austin TX), Submicron particle removal using liquid nitrogen.
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  15. McDermott Wayne T. (Allentown PA) Ockovic Richard C. (Allentown PA) Wu Jin J. (Ossining NY) Cooper Douglas W. (Millwood NY) Schwarz Alexander (Allentown PA) Wolfe Henry L. (Pleasant Valley NY), Surface cleaning using a cryogenic aerosol.
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  16. Wilkinson Steven Paul ; Schweighardt Frank Kenneth ; Robeson Lloyd Mahlon, Surfactants for use in liquid/supercritical CO.sub.2.
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이 특허를 인용한 특허 (22) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Takeshi Kubota JP; Norikazu Komatsu JP, Apparatus used for fabricating liquid crystal device and method of fabricating the same.
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  2. Jackson,David P., Carbon dioxide snow apparatus.
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  3. DeYoung, James P.; McClain, James B.; Gross, Stephen M.; Wagner, Mark I., Compositions of transition metal species in dense phase carbon dioxide and methods of use thereof.
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  4. Gilton, Terry L., Gas assisted method for applying resist stripper and gas-resist stripper combinations.
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  5. Gilton, Terry L., Gas assisted method for applying resist stripper and gas-resist stripper combinations.
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  6. Gilton, Terry L., Gas assisted method for applying resist stripper and gas-resist stripper combinations.
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  7. Gilton, Terry L., Gas assisted method for applying resist stripper and gas-resist stripper combinations.
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  8. Gilton,Terry L., Gas assisted method for applying resist stripper and gas-resist stripper combinations.
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  9. Terry L. Gilton, Gas assisted method for applying resist stripper and gas-resist stripper combinations.
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  10. Gilton,Terry L., Gas-assist systems for applying and moving ozonated resist stripper to resist-bearing surfaces of substrates.
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  11. Cheng, Chi Wah; Tse, Wang Lung Alan; Chan, Leung Por Boris, Megasonic cleaning system.
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  12. Montierth,Garry L.; Miranda,Henry R.; Maraviov,Sharyl L.; Busnaina,Ahmed A., Method and apparatus to process substrates with megasonic energy.
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  13. Kamata,Yoshiyuki; Naito,Katsuyuki; Kikitsu,Akira; Sakurai,Masatoshi; Oka,Masahiro, Method for manufacturing substrate for discrete track recording media and method for manufacturing discrete track recording media.
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  14. Holden, James Matthew; Suh, Song-Moon; Sudheeran, Shalina D.; Mori, Glen T., Methods and apparatus for cleaning a substrate.
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  15. Brahmbhatt, Sudhir R.; Masi, Richard R., Methods and systems for sanitizing or sterilizing a medical device using ultrasonic energy and liquid nitrogen.
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  16. Beck, Mark J.; Vennerbeck, Richard B.; Lillard, Raymond Y.; Liebscher, Eric G., Radial power megasonic transducer.
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  17. Sato, Masanobu; Hirae, Sadao; Yasuda, Shuichi; Morinishi, Kenya, Substrate cleaning apparatus.
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  18. Sato, Masanobu; Hirae, Sadao; Yasuda, Shuichi; Morinishi, Kenya, Substrate cleaning apparatus.
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  19. Okuda,Seiichiro; Sugimoto,Hiroaki; Kuroda,Takuya; Sato,Masanobu; Hirae,Sadao; Yasuda,Shuichi; Morinishi,Kenya; Imai,Masayoshi, Substrate processing apparatus.
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  20. Dickinson, C. John; Jansen, Frank; Murphy, Daimhin P., Substrate processing apparatus and related systems and methods.
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  21. Nunomura, Mahito; Kishimoto, Takashi, Ultrasonic washing device.
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  22. Kazuki Kobayashi JP; Toshiaki Muratani JP; Hiroto Yoshioka JP, Ultrasound cleaning device and resist-stripping device.
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